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三電極DBD裝置放電特性及降解苯研究

發(fā)布時(shí)間:2021-03-12 11:15
  介質(zhì)阻擋放電(Dielectric Barrier Discharge,DBD)能夠在常溫、常壓下產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體,因其裝置結(jié)構(gòu)簡單、能量利用率高,已成為最常用的等離子體生產(chǎn)方法之一。根據(jù)放電等離子體空間分布的差別,DBD可分為沿面介質(zhì)阻擋放電(SDBD)和體介質(zhì)阻擋放電(VDBD),VDBD在高壓和低壓電極間的空氣間隙中產(chǎn)生放電等離子體,起始放電電壓較高;SDBD的放電電極緊貼于絕緣介質(zhì)表面,等離子體沿介質(zhì)表面發(fā)展,導(dǎo)致等離子體化學(xué)反應(yīng)僅發(fā)生在介質(zhì)表面附近,影響氣體的處理能力,但沿面放電的起始放電電壓較低,氣體處理效能較高。因此,本文將兩種放電結(jié)構(gòu)相結(jié)合,提出兩種三電極沿面/體DBD復(fù)合放電結(jié)構(gòu),一種是通過在垂直于SDBD的上方增加接地電極形成V-SDBD系統(tǒng),一種是通過在板板DBD下方添加接地電極形成S-VDBD系統(tǒng),從電學(xué)特性、光學(xué)特性和活性物質(zhì)生成等角度探究附加的接地電極對(duì)原來單一DBD裝置結(jié)構(gòu)的影響,并對(duì)附加接地電極影響放電特性原因進(jìn)行了分析,最后考察三電極復(fù)合結(jié)構(gòu)對(duì)苯的降解性能,具體實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下:(1)通過對(duì)比SDBD與V-SDBD系統(tǒng)的電信號(hào)、發(fā)射光譜、活性物質(zhì)生成能力... 

【文章來源】:大連理工大學(xué)遼寧省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】:74 頁

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【文章目錄】:
摘要
Abstract
引言
1 緒論
    1.1 介質(zhì)阻擋放電等離子體的概念
    1.2 介質(zhì)阻擋放電電極結(jié)構(gòu)的研究現(xiàn)狀
        1.2.1 體介質(zhì)阻擋放電
        1.2.2 沿面介質(zhì)阻擋放電
    1.3 介質(zhì)阻擋放電等離子體降解VOCs的研究現(xiàn)狀
    1.4 本文主要研究內(nèi)容
2 實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)及測(cè)量方法
    2.1 實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)
    2.2 測(cè)量參數(shù)及方法
        2.2.1 放電參數(shù)
        2.2.2 活性物質(zhì)測(cè)量
        2.2.3 發(fā)射光譜法
        2.2.4 傅里葉變換紅外光譜
3 V-SDBD裝置系統(tǒng)的放電特性分析
    3.1 伏安特性
    3.2 電荷特性與放電功率
    3.3 介質(zhì)厚度的影響
    3.4 第三電極間隙的影響
    3.5 放電圖像
    3.6 發(fā)射光譜
    3.7 高壓電極結(jié)構(gòu)
    3.8 活性物質(zhì)生成
    3.9 復(fù)合裝置V-SDBD對(duì) SDBD影響分析
    3.10 本章小結(jié)
4 V-SDBD裝置系統(tǒng)的放電特性分析
    4.1 伏安特性
    4.2 電荷特性與放電功率
    4.3 電極結(jié)構(gòu)的影響
    4.4 均勻性分析
    4.5 活性物質(zhì)生成
    4.6 復(fù)合裝置S-VDBD對(duì)體DBD影響分析
    4.7 本章小結(jié)
5 三電極DBD裝置降解苯性能研究
    5.1 苯降解性能測(cè)量及參數(shù)
    5.2 V-SDBD和 SDBD裝置降解苯性能差異
    5.3 S-VDBD和 VDBD裝置降解苯性能差異
    5.4 V-SDBD和 S-VDBD裝置降解苯性能差異
    5.5 苯降解性能影響參數(shù)分析
        5.5.1 氣體流速對(duì)降解苯性能影響
        5.5.2 第三電極間隙對(duì)降解苯性能影響
        5.5.3 苯初始濃度對(duì)降解苯性能影響
    5.6 苯降解產(chǎn)物分析
    5.7 本章小結(jié)
6 結(jié)論與展望
    6.1 結(jié)論
    6.2 展望
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表學(xué)術(shù)論文情況
致謝



本文編號(hào):3078208

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