單次X射線曝光的高空間分辨相干衍射成像方法研究
【學(xué)位單位】:中國科學(xué)院大學(xué)(中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位年份】:2019
【中圖分類】:O434.1
【部分圖文】:
相干 X 射線衍射成像方法介紹1 X 射線顯微成像簡介隨著現(xiàn)代生物學(xué)、材料科學(xué)、納米科學(xué)、藥理學(xué)等學(xué)科的不斷發(fā)展,人測物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的需求越來越高,這也推動著顯微技術(shù)的不斷發(fā)展。自Robert Hooke)在 1665 年利用自制的光學(xué)顯微鏡觀察并繪制了軟木細胞成像經(jīng)過了長時間的發(fā)展已經(jīng)成為了一個成熟的學(xué)科,除了可見光顯微為人們提供了多種先進的顯微成像技術(shù)。1931 年,魯斯卡(Ernst Rusk制了世界上第一臺電子顯微鏡[2];1985 年,賓寧(Gerd Binning)等人界上第一臺原子力顯微鏡[3]。電子顯微鏡和原子力顯微鏡為人們提供了至是原子級分辨率的成像精度[4,5],但是其局限性在于無法穿透樣品內(nèi)對樣品表面信息進行探測。
單次 X 射線曝光的高空間分辨相干衍射成像方法研究利用 X 射線進行顯微成像有著得天獨厚的優(yōu)勢:X 射線的波長比可見光波長要短至少兩個數(shù)量級,其理論上可達到的極限分辨率要遠高于可見光顯微鏡;X 射線穿透物質(zhì)的本領(lǐng)使得其可以被應(yīng)用于探測樣品內(nèi)部信息,更可以進一步地對樣品進行三維成像;X 射線與樣品之間地作用方式豐富,有吸收、散射、熒光等等,利用這些作用方式可以發(fā)展出多種顯微成像方法[7,8]。
圖 1.3 上海光源俯視圖Figure 1.3 The vertical view of Shanghai Synchrotron Radiation Facitity由電子激光是利用自由電子為工作媒質(zhì)產(chǎn)生的強相干輻射[15-17]。具有的(1)完全相干性,自由電子激光產(chǎn)生的脈沖可以被看作是完全相干的超短脈沖時間,自由電子激光的脈沖時間是飛秒級別的;(3)超高的脈相比于第三代同步輻射光源,自由電子激光的脈沖強度更要高上幾個數(shù)而高脈沖強度這一特性會帶來樣品損壞這一不利于成像的事實。相干 X 射線衍射成像方法于已有的大裝置相干光源,目前發(fā)展出的 X 射線顯微成像的方法有: X 射線顯微鏡(Full-field Transmission X-ray Microscopy,F(xiàn)ull-field TX
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本文編號:2854645
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