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外加電場下無序?qū)柘┹斶\性質(zhì)的影響

發(fā)布時間:2020-07-01 17:52
【摘要】:近年來,硅烯因其特殊的輸運性質(zhì)成為二維半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的研究熱點。本文采用緊束縛近似理論和非平衡格林函數(shù)方法,從理論上計算和分析了外加電場時非磁性雜質(zhì)對鋸齒形邊界硅烯納米帶輸運性質(zhì)的影響。我們通過在導(dǎo)區(qū)中各格點引入隨機的無序勢,來實現(xiàn)硅烯的無序效應(yīng)?紤]Rashba自旋軌道耦合和本征自旋軌道耦合對硅烯的影響,利用非平衡格林函數(shù)和分通道計算透射系數(shù)的方法,研究了考慮外加電場和非磁性雜質(zhì)的情況下,硅烯納米條帶的能帶結(jié)構(gòu)、電導(dǎo)率和谷極化率等性質(zhì),得到以下結(jié)論:外加垂直電場后,能級簡并解除,并且隨著電場強度的增大,硅烯體系體帶隙寬度減小,導(dǎo)致硅烯完美谷極化平臺寬度變窄;不考慮雜質(zhì)對體系的影響時,K谷和K'谷以及體系總電導(dǎo)均呈現(xiàn)出臺階狀結(jié)構(gòu),電子傳輸都在各自的谷中進行;考慮非磁性雜質(zhì)后,雜質(zhì)的存在使電荷局域性增強,雜質(zhì)對載流子的散射破壞了K谷和K'谷的電導(dǎo)平臺結(jié)構(gòu),但是邊態(tài)受雜質(zhì)的影響不大,邊態(tài)的傳輸仍然在各自的谷內(nèi)進行,谷極化的完美平臺結(jié)構(gòu)沒有遭到破壞,表現(xiàn)出硅烯邊態(tài)輸運的魯棒性。
【學(xué)位授予單位】:河北師范大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:O469
【圖文】:

STM圖像,硅烯,STM圖像,原子結(jié)構(gòu)


1. 1 在Ag(111)表面上生長的三種不同類型的硅烯原子結(jié)構(gòu)和相應(yīng)的STM圖像。a)、(c)和(e)分別是4×4、 13 × 13和2 3 × 2 3三種硅烯的俯視圖、側(cè)視圖和STM圖像;(b)、(d)和(f)是對應(yīng)于三種硅烯完整的STM圖像。紅色菱形表示硅烯的超晶格結(jié)構(gòu)。目前由第一原理預(yù)測和實驗獲得的硅烯結(jié)構(gòu)主要有三種,如圖1. 1所示[25,26]。2012,Vogt等人首先從理論上預(yù)測,并且在4×4Ag襯底上制備4×4的硅烯,如圖1. 1(a)示[16]。但是,制備的硅烯不具有如上所述的低翹曲結(jié)構(gòu),低能電子結(jié)構(gòu)也不具有狄拉錐等特性。同一年,Lin等人在4×4的Ag基底上制備了 13 × 13的硅烯,如圖1. 1(c)示[27]。本實驗首次證明,在Ag(111)襯底上可以制備不同結(jié)構(gòu)的硅烯, 13 × 13與4硅烯不同的是具有弱翹曲的晶格結(jié)構(gòu)。之后,在2013 年Cinquanta等人制備了[25,28]

典型裝置,費米-狄拉克分布,存儲器,導(dǎo)線


圖 2. 1 Landauer-Büuttiker 形式的典型裝置。兩個存儲器通過導(dǎo)線連接到具有透射系數(shù) T ( E )的介觀裝置。通過器件的電導(dǎo)可以用透射率nT 表示,即通道 n 中的電子透過器件的概率。結(jié)果由Landauer 公式給出:22G ( )n FneT Eh= ∑ 。 (2. 2. 1)下面介紹得到 Landauer 公式的簡單方法[34]。在導(dǎo)線中總的狀態(tài)數(shù)由費米-狄拉克分布 f ( E)α μ給出,αμ 是存儲器的化學(xué)勢,其中 α = 1,2。于是通過n通道的α 導(dǎo)線流過的電子電流為:2( ) ( ) ( ), 1, 2nE nkeI T E v k f ELα α= ∑ μ= α。 (2. 2. 2)

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7 劉e

本文編號:2737088


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