【摘要】：電磁發(fā)射過程中電樞和導(dǎo)軌之間產(chǎn)生相對滑動,樞軌間接觸狀態(tài)時刻在發(fā)生變化,而接觸狀態(tài)的變化會使樞軌間接觸電阻改變而導(dǎo)致打弧和燒蝕現(xiàn)象的出現(xiàn)。因此對樞軌間接觸電阻的仿真分析可以探究打弧和燒蝕現(xiàn)象出現(xiàn)的原因,對改善電磁發(fā)射的發(fā)射狀態(tài)具有重要意義。本文通過仿真分析對接觸電阻的影響進(jìn)行了研究,主要工作如下:運(yùn)用有限元軟件對發(fā)射C形電樞和圓形電樞的電磁軌道發(fā)射裝置進(jìn)行電磁場和結(jié)構(gòu)場分析,計算電樞在發(fā)射過程中各個時刻樞軌間所受的洛倫茲力和過盈力,并根據(jù)樞軌間的接觸壓力分布劃分樞軌表面接觸區(qū)域,設(shè)置為不同的接觸電阻。計算結(jié)果顯示,洛倫茲力引起的側(cè)向力遠(yuǎn)大于預(yù)緊力;C形電樞接觸電阻變化急劇升高后急劇減小,然后緩慢增大到最大值;圓形電樞接觸電阻緩慢減小然后逐漸增大到最大值將各個時刻不同的接觸電阻代入電磁場和溫度場進(jìn)行分析,并將計算結(jié)果與理想接觸下的計算結(jié)果進(jìn)行對比,最終得出接觸電阻對發(fā)射C形電樞電磁軌道發(fā)射裝置的影響。對圓形電樞進(jìn)行了電磁場與溫度場分析,對比考慮接觸電阻下計算結(jié)果和理想接觸下計算結(jié)果,并觀察接觸電阻對發(fā)射圓形電樞電磁軌道發(fā)射裝置的影響。
【圖文】：

蝕深度隨電流增大而增大，隨預(yù)緊力增大而減小。，隨著科研的繼續(xù)深入，燒蝕問題得到了很大的改善，但并不能從根和電弧放電現(xiàn)象，而接觸電阻特性體現(xiàn)了樞軌間的接觸狀態(tài)，對接觸可以有效地找到燒蝕損傷和電弧放電的原因，所以對接觸電阻動態(tài)特要。觸電阻動態(tài)特性研究接觸表面并不是光滑的，而是粗糙的，凹凸不平的。因此，當(dāng)兩個金接觸元件的粗糙表面將刺破表面氧化層和其他污染膜層，從而形成微，建立局部的金屬接觸的導(dǎo)電路徑。這些金屬斑點稱為 a 斑點，是唯，由于通過 a 斑點時電流線收縮，使電阻增加，這個增加的電阻定義接觸表面上的污染膜也增加了 a 斑點的電阻，稱為膜層電阻。由收縮引起的總電阻稱為接觸電阻[35]。

燕山大學(xué)工學(xué)碩士學(xué)位論文軌接觸電阻仿真結(jié)果及分析射過程中，，樞軌間接觸壓力隨電流變化而變化，接觸狀態(tài)的改變，而接觸電阻直接反映著樞軌間的接性對電磁發(fā)射裝置的精度和壽命起著至關(guān)重要的作就極為重要。和導(dǎo)軌間接觸良好，電樞和導(dǎo)軌間使用過盈接觸[48-示。電樞推進(jìn)電磁軌道發(fā)射裝置之后，由于樞軌間過此時樞軌間的初始接觸壓力由樞軌間的過盈量提供應(yīng)沿著軌道加速運(yùn)動。電磁炮發(fā)射軌道長度為 2 m，度為 2000 m/s，電樞以 2000 km/s2的加速度做勻加射時間約為 2 ms。
【學(xué)位授予單位】：燕山大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2019
【分類號】：O441

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