【摘要】：隨著軍事隱形、太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換以及激光熱處理等技術(shù)研究的日益深入,對(duì)表面吸收膜的技術(shù)要求不斷提高。為滿足太陽(yáng)光譜吸收的要求,研制了一種在400~2500nm波段具有強(qiáng)吸收作用、適應(yīng)多種基底的光學(xué)薄膜。通過(guò)分析吸收理論,建立吸收結(jié)構(gòu)模型,并結(jié)合材料的特性研究,實(shí)現(xiàn)了吸收膜的設(shè)計(jì)。采用真空離子輔助沉積技術(shù),根據(jù)逆向反演法,對(duì)"分步沉積"工藝二次優(yōu)化,制備了太陽(yáng)光譜強(qiáng)吸收膜。測(cè)試結(jié)果表明,研制的吸收膜在400~2500nm波段的平均吸收率為98.15%。制備的吸收膜通過(guò)了機(jī)械牢固度測(cè)試,與基底能夠很好地結(jié)合。

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本文編號(hào)：2561014