發(fā)布時間：2018-09-14 16:45

【摘要】：全息光柵拼接參數(shù)需要用參考干涉條紋來檢測。系統(tǒng)像差會造成干涉條紋扭曲,產(chǎn)生光柵拼接誤差。為補償像差造成的光柵拼接誤差,對像差與干涉條紋扭曲量之間的理論關系進行了研究,利用計算機模擬了參考干涉條紋圖像,并將光柵拼接誤差預調制到參考干涉條紋圖像中。為驗證該方法的有效性,在曝光系統(tǒng)像差峰-峰值為0.72λ的情況下進行了光柵拼接實驗,在光柵拼縫處像差造成-1級衍射波面最大突變量為0.36λ。利用預制參考干涉條紋圖像作為拼接參考時,其最大突變量為0.097λ。實驗結果表明,在曝光系統(tǒng)像差較大的情況下,干涉條紋預制法能夠有效地控制光柵拼接誤差。
[Abstract]:The parameters of holographic grating splicing need to be detected by reference interference fringes. The aberration of the system will cause distortion of the interference fringes and the grating splicing error. In order to compensate the error of grating splicing caused by aberration, the theoretical relationship between aberration and distortion of interference fringes is studied. The reference interference fringe images are simulated by computer. The grating splicing error is premodulated into the reference interference fringe image. In order to verify the effectiveness of this method, a grating splicing experiment is carried out under the condition that the aberration peak to peak value of the exposure system is 0.72 位. The maximum abrupt amount of diffraction wave surface of order -1 caused by aberration of grating splicing is 0.36 位. When the prefabricated reference interference fringe image is used as the mosaic reference, the maximum mutation amount is 0.097 位. The experimental results show that the interference fringe prefabrication method can effectively control the grating splicing error when the aberration of the exposure system is large.
【作者單位】： 蘇州市職業(yè)大學電子信息工程學院;蘇州大學物理與光電能源學部蘇州納米科技協(xié)同創(chuàng)新中心;
【基金】：國家自然科學基金(61178046) 江蘇省高校自然科學研究重大項目(11KJA14001)
【分類號】：TN25

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