天堂国产午夜亚洲专区-少妇人妻综合久久蜜臀-国产成人户外露出视频在线-国产91传媒一区二区三区

當(dāng)前位置:主頁 > 科技論文 > 物理論文 >

磁控濺射中等離子體電離機(jī)制的數(shù)值解析

發(fā)布時(shí)間:2018-09-03 12:50
【摘要】:以圓柱形磁控濺射裝置為研究對(duì)象,下極板外接通電線圈使之產(chǎn)生的磁場,并在上、下極板間施加直流電場,研究電磁場作用下等離子體中電子、離子、中性粒子和亞穩(wěn)態(tài)離子分布。研究以Fortran語言自主編程,對(duì)所建立的模型用有限差分方法數(shù)值模擬。研究表明:輝光放電起始,電離項(xiàng)為等離子體中離子的主要來源;隨著輝光放電趨于平衡,由一次電離、激發(fā)態(tài)二次電離等組成的累積電離項(xiàng)成為等離子體中離子的主體。達(dá)到穩(wěn)定電離后,電子受磁場約束集中分布于下極板附近,從而使被電離的離子也集中分布于下極板附近。在距下極板15~40 cm區(qū)間內(nèi),離子分布較均勻。
[Abstract]:Taking the cylindrical magnetron sputtering device as the research object, the magnetic field produced by the external electrified coil of the lower pole plate is studied, and the direct current field is applied between the upper and lower poles to study the electron and ion in the plasma under the action of the electromagnetic field. Distribution of neutral particles and metastable ions. In this paper, the model is simulated by finite difference method in Fortran language. The results show that the ionization term is the main source of ions in the plasma, and the accumulated ionization term consisting of the primary ionization and the excited secondary ionization becomes the main ion in the plasma with the glow discharge tending to equilibrium. After stable ionization, the electrons are confined by magnetic field and distributed near the lower polar plate, so that the ionized ions are also concentrated near the lower polar plate. In the range of 15 ~ 40 cm, the ion distribution is uniform.
【作者單位】: 遼寧科技大學(xué)表面工程研究所;
【基金】:國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51372109,51672119);國家自然科學(xué)基金青年基金項(xiàng)目(51502126) 遼寧省科技廳(601009817-01) 遼寧科技大學(xué)大學(xué)生創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)項(xiàng)目(201610146010)
【分類號(hào)】:O53

【相似文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 惠迎雪,杭凌俠,徐均琪,陳偉;不同磁控濺射模式膜厚均勻性研究[J];西安工業(yè)學(xué)院學(xué)報(bào);2003年01期

2 王立;磁控濺射靶源特性研究[J];咸陽師范學(xué)院學(xué)報(bào);2004年06期

3 靳毅;肖飛;溫旭輝;姜昕;;平面旋轉(zhuǎn)磁控濺射源的研究[J];真空;2008年04期

4 易泰民;邢丕峰;唐永建;張林;鄭鳳成;謝軍;李朝陽;楊蒙生;;磁控濺射制備金屬鈾膜[J];原子能科學(xué)技術(shù);2010年07期

5 凌世德,程維明;磁控濺射槍的設(shè)計(jì)與應(yīng)用[J];上海機(jī)械學(xué)院學(xué)報(bào);1986年03期

6 范玉殿,馬志龍,孫培芬,亢海霞,尤引娟;一種新型平面磁控濺射靶[J];真空科學(xué)與技術(shù);1987年01期

7 劉聲雷;磁控濺射制備超導(dǎo)量子結(jié)[J];真空;1994年02期

8 黃士勇,王德苗,,曲風(fēng)欽,苗曄;大型旋轉(zhuǎn)圓柱形磁控濺射器[J];真空電子技術(shù);1998年04期

9 牟宗信,李國卿,車德良,黃開玉,柳翠;非平衡磁控濺射沉積系統(tǒng)伏安特性模型研究[J];物理學(xué)報(bào);2004年06期

10 徐政;俞曉正;蔡楚江;沈志剛;;空心微珠表面磁控濺射和化學(xué)鍍金屬膜的特性比較[J];過程工程學(xué)報(bào);2006年S2期

相關(guān)會(huì)議論文 前10條

1 梁愛鳳;楊化偉;王宇鋼;;磁控濺射與離子鍍技術(shù)在高分子核孔膜中的沉積形貌研究[A];2008年全國荷電粒子源、粒子束學(xué)術(shù)會(huì)議暨中國電工技術(shù)學(xué)會(huì)第十二屆電子束離子束學(xué)術(shù)年會(huì)、中國電子學(xué)會(huì)焊接專業(yè)委員會(huì)第九屆全國電子束焊接學(xué)術(shù)交流會(huì)、粒子加速器學(xué)會(huì)第十一屆全國離子源學(xué)術(shù)交流會(huì)、中國機(jī)械工程學(xué)會(huì)焊接分會(huì)2008年全國高能束加工技術(shù)研討會(huì)、北京電機(jī)工程學(xué)會(huì)第十屆粒子加速器學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2008年

2 楊種田;楊兵;周霖;劉傳勝;葉明生;付德君;;多弧-中頻磁控濺射沉積Ti-Si-N結(jié)構(gòu)與性能[A];2008年全國荷電粒子源、粒子束學(xué)術(shù)會(huì)議暨中國電工技術(shù)學(xué)會(huì)第十二屆電子束離子束學(xué)術(shù)年會(huì)、中國電子學(xué)會(huì)焊接專業(yè)委員會(huì)第九屆全國電子束焊接學(xué)術(shù)交流會(huì)、粒子加速器學(xué)會(huì)第十一屆全國離子源學(xué)術(shù)交流會(huì)、中國機(jī)械工程學(xué)會(huì)焊接分會(huì)2008年全國高能束加工技術(shù)研討會(huì)、北京電機(jī)工程學(xué)會(huì)第十屆粒子加速器學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2008年

3 王軍生;童洪輝;趙嘉學(xué);韓大凱;戴彬;;影響磁控濺射均勻性的因素[A];第十三屆全國等離子體科學(xué)技術(shù)會(huì)議論文集[C];2007年

4 袁淵明;彌謙;潘婷;;磁場強(qiáng)度對(duì)磁約束磁控濺射源工作狀態(tài)的影響[A];2010年西部光子學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議摘要集[C];2010年

5 田修波;吳忠振;鞏春志;楊士勤;;高脈沖功率磁控濺射電源及放電特性研究[A];第十四屆全國等離子體科學(xué)技術(shù)會(huì)議暨第五屆中國電推進(jìn)技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)會(huì)議摘要集[C];2009年

6 歐陽俊;張偉;楊茜;馮君校;康立敏;袁美玲;潘偉;;BaTiO_3-SrTiO_3多層薄膜的磁控濺射制備及其電學(xué)性能研究[A];中國真空學(xué)會(huì)2012學(xué)術(shù)年會(huì)論文摘要集[C];2012年

7 亢原彬;劉思鵬;王暉;鄧湘云;李德軍;;磁控濺射參數(shù)對(duì)ZrB_2/ZrAlN納米多層膜結(jié)構(gòu)和性能的影響[A];TFC'07全國薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2007年

8 孫宏明;張翊;郭航;;磁控濺射ZnO壓電薄膜的生長與表征[A];第二屆全國壓電和聲波理論及器件技術(shù)研討會(huì)摘要集[C];2006年

9 丁瑞欽;;磷擴(kuò)散法制備高摻磷P型ZnO薄膜的磁控濺射工藝的探索[A];第15屆全國晶體生長與材料學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2009年

10 任克飛;陰明利;鄒長偉;付德君;;離子源輔助中頻磁控濺射制備AlN薄膜[A];2008年全國荷電粒子源、粒子束學(xué)術(shù)會(huì)議暨中國電工技術(shù)學(xué)會(huì)第十二屆電子束離子束學(xué)術(shù)年會(huì)、中國電子學(xué)會(huì)焊接專業(yè)委員會(huì)第九屆全國電子束焊接學(xué)術(shù)交流會(huì)、粒子加速器學(xué)會(huì)第十一屆全國離子源學(xué)術(shù)交流會(huì)、中國機(jī)械工程學(xué)會(huì)焊接分會(huì)2008年全國高能束加工技術(shù)研討會(huì)、北京電機(jī)工程學(xué)會(huì)第十屆粒子加速器學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2008年

相關(guān)博士學(xué)位論文 前4條

1 喻波;極紫外多層膜膜厚梯度控制及抗熱損傷研究[D];中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所);2016年

2 張磊;輻照損傷材料的實(shí)驗(yàn)?zāi)M研究:含氦薄膜制備及MAX相材料離子輻照行為[D];復(fù)旦大學(xué);2011年

3 吳文娟;極紫外和軟X射線窄帶多層膜的研究[D];同濟(jì)大學(xué);2007年

4 于賀;不同濺射方法薄膜制備的理論計(jì)算及特性研究[D];電子科技大學(xué);2013年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條

1 喬愛肖;利用磁控濺射制備薄膜的研究[D];河北科技大學(xué);2013年

2 牟曉東;高功率脈沖非平衡磁控濺射法制備CrN_x膜和Cu膜及其沉積特性的研究[D];大連理工大學(xué);2011年

3 黃開玉;中頻孿生磁控濺射等離子體特性與氧化物薄膜沉積研究[D];大連理工大學(xué);2005年

4 高艷芬;磁控濺射等離子體靶粒子輸運(yùn)過程研究[D];河北大學(xué);2008年

5 王德志;圓平面磁控濺射靶的優(yōu)化研究[D];東北大學(xué);2011年

6 代敏;W/B_4C多層膜制備與表征的研究[D];長春理工大學(xué);2009年

7 賀佳;ABS塑料鍍鋁表面高功率脈沖射頻磁控濺射沉積SiO_2薄膜研究[D];大連理工大學(xué);2013年

8 葉鑫;利用磁控濺射和溶膠—凝膠法制備ZnO-TFT及相關(guān)因素的研究[D];北京交通大學(xué);2011年

9 趙麗特;磁控濺射納米二氧化鈦薄膜的制備及相關(guān)特性研究[D];暨南大學(xué);2004年

10 方雪冰;CPA型磁控濺射設(shè)備靶改進(jìn)及磁場模擬分析研究[D];電子科技大學(xué);2010年



本文編號(hào):2220027

資料下載
論文發(fā)表

本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/wulilw/2220027.html


Copyright(c)文論論文網(wǎng)All Rights Reserved | 網(wǎng)站地圖 |

版權(quán)申明:資料由用戶618ea***提供,本站僅收錄摘要或目錄,作者需要?jiǎng)h除請E-mail郵箱bigeng88@qq.com