【摘要】：采用兩種不同的方法對同一新建電磁混響室的場均勻性進行了評定、對比和分析,一種是基于最大場強統(tǒng)計特性,具有優(yōu)于相關(guān)國際標準的技術(shù)指標;另一種方法是基于不同攪拌狀態(tài)下被測場強的概率分布,將任意攪拌狀態(tài)下的被測場強均納入場均勻性判定過程中.兩種評定方法所得結(jié)果具有一致性和差異性,一致性證明了新方法能夠從場強概率分布的角度對混響室的場均勻性進行有效驗證;差異性則說明了新方法可以為射頻識別芯片最大識別距離測試、復雜信道模擬等應(yīng)用提供更為全面和準確的基礎(chǔ)技術(shù)指標支撐.
[Abstract]:The field uniformity of the same newly built electromagnetic reverberation chamber is evaluated by two different methods. Another method is based on the probability distribution of the measured field strength in different stirring states, and the measured field strength in any stirring state is included in the field uniformity determination process. The results obtained by the two evaluation methods are consistent and different. The consistency proves that the new method can effectively verify the field uniformity of reverberation chamber from the angle of probability distribution of field strength. The difference shows that the new method can provide more comprehensive and accurate basic technical index support for RFID chip maximum identification distance test, complex channel simulation and other applications.
【作者單位】： 中國計量科學研究院;
【基金】：國家科技支撐計劃項目(2014BAK02B00)之課題四(2014BAK02B04)及課題五(2014BAK02B00) 國家計量基標準資源共享平臺項目(27-APT1401-7)
【分類號】：O441

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本文編號：2170071