發(fā)布時(shí)間：2018-06-04 23:17

  本文選題：激光技術(shù) + 石英玻璃刻蝕��； 參考：《中國(guó)激光》2017年09期

【摘要】：利用248nm納秒準(zhǔn)分子激光,采用掩模投影和石英玻璃前表面直寫刻蝕的方法,研究了激光脈沖能量密度、重復(fù)頻率、掃描次數(shù)對(duì)微通道裂損的影響規(guī)律,分析了石英玻璃激光刻蝕及裂損的機(jī)理。結(jié)果表明,248nm納秒準(zhǔn)分子激光刻蝕石英玻璃的機(jī)理為光致電離及熱燒蝕的共同作用;無裂損刻蝕JGS1型石英玻璃的激光能量密度閾值范圍為16~30J·cm~(-2),刻蝕率可達(dá)每脈沖500nm;隨著激光重復(fù)頻率及掃描次數(shù)的增加,微通道容易因熱積累及等離子體微爆炸沖擊作用而裂損�；趦�(yōu)化的激光加工參數(shù),當(dāng)微通道寬度小于100μm時(shí),可以實(shí)現(xiàn)無裂損的直線型(深度小于或等于50μm)及圓弧型(深度小于或等于28.5μm)微通道的加工。
[Abstract]:Using 248nm nanosecond excimer laser, the effects of laser pulse energy density, repetition rate and scanning times on the crack of microchannel were studied by mask projection and direct etching on the front surface of quartz glass. The mechanism of laser etching and cracking of quartz glass is analyzed. The results show that the mechanism of etching quartz glass by 248nm nanosecond excimer laser is the interaction of photoionization and thermal ablation. The laser energy density threshold of JGS1 type quartz glass etched without crack is 1630J / cm ~ (-2) and the etching rate can reach 500nm / pulse. With the increase of laser repetition rate and scanning times, the microchannel is prone to crack due to thermal accumulation and plasma micro-explosion impact. Based on the optimized laser machining parameters, when the width of the microchannel is less than 100 渭 m, the fabrication of linear (depth less than or equal to 50 渭 m) and arc (depth less than or equal to 28.5 渭 m) microchannel without crack can be realized.
【作者單位】： 北京工業(yè)大學(xué)激光工程研究院;
【基金】：國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)(2011YQ030112)
【分類號(hào)】：TN249

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本文編號(hào)：1979275