本文選題：氮化鋁　切入點(diǎn)：橢偏儀　出處：《紅外與毫米波學(xué)報(bào)》2017年03期

【摘要】：通過(guò)橢偏儀對(duì)生長(zhǎng)在藍(lán)寶石上的不同厚度氮化鋁薄膜的變溫光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行了研究,并采用托克-洛倫茲模型對(duì)橢偏實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行了擬合分析,精確得到了氮化鋁薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)(折射率n,消光系數(shù)k)等.研究的結(jié)果表明:相比薄的氮化鋁薄膜,厚的氮化鋁薄膜的折射率較大.隨著溫度的升高,氮化鋁的折射率、消光系數(shù)和帶隙會(huì)向低能端單調(diào)地移動(dòng)(紅移);厚度對(duì)帶隙隨溫度改變的影響較小,對(duì)折射率則有一定的影響.
[Abstract]:The optical properties of aluminum-nitride thin films with different thickness grown on sapphire have been studied by ellipsometry, and the experimental data of ellipsometry have been fitted and analyzed by using Tock-Lorentz model. The thickness and optical constant (refractive index n, extinction coefficient k) of aluminum nitride thin film are obtained accurately. The results show that the thickness of aluminum nitride film is larger than that of thin aluminum nitride film, and with the increase of temperature, the thickness of aluminum nitride film is larger than that of thin aluminum nitride film. The refractive index, extinction coefficient and band gap of aluminum nitride move monotonously to the low energy end (red shift); the thickness has little effect on the change of band gap with temperature, but has certain effect on refractive index.
【作者單位】： 廣西大學(xué)物理科學(xué)與工程技術(shù)學(xué)院廣西相對(duì)論天體物理重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室光電子材料與探測(cè)技術(shù)實(shí)驗(yàn)室;華中科技大學(xué)武漢光電國(guó)家實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：National Natural Science Foundation of China(61367004,11604058) Guangxi Key Laboratory for Relativistic Astrophysics-Guangxi Natural Science Creative Team funding(2013GXNSFFA019001) Guangxi Natural Science Foundation(2016GXNSFBA380244)
【分類(lèi)號(hào)】：O484.41

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