本文選題：磁控濺射　切入點(diǎn)：氧化鋅薄膜　出處：《吉林大學(xué)學(xué)報(bào)(理學(xué)版)》2017年01期 　論文類(lèi)型：期刊論文

【摘要】：采用磁控濺射技術(shù)在SiO_2襯底上制備ZnO薄膜,并通過(guò)X射線衍射儀、原子力顯微鏡、紫外-可見(jiàn)分光光度計(jì)和熒光光譜儀對(duì)薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌、帶隙寬度和光致發(fā)光性質(zhì)進(jìn)行測(cè)試表征,結(jié)合飛秒激光(波長(zhǎng)為800nm,脈寬50fs)和Z掃描方法測(cè)量該薄膜的三階非線性光學(xué)特性.結(jié)果表明,其三階非線性折射率和非線性吸收系數(shù)均為正值,分別為3.50×10-18 m2/W和2.88×10-11 m/W.
[Abstract]:ZnO thin films were prepared on SiO_2 substrates by magnetron sputtering. The crystal structure and surface morphology of the films were characterized by X-ray diffractometer, atomic force microscope, UV-Vis spectrophotometer and fluorescence spectrometer. The band gap width and photoluminescence properties were measured and characterized. The third-order nonlinear optical properties of the film were measured by femtosecond laser (wavelength 800 nm, pulse width 50 fs) and Z scan. The third-order nonlinear refractive index and nonlinear absorption coefficient are both positive, which are 3.50 脳 10 ~ (-18) m ~ (2 / W) and 2.88 脳 10 ~ (-11) m / W, respectively.
【作者單位】： 白城師范學(xué)院物理與電子信息學(xué)院;通化師范學(xué)院物理學(xué)院;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號(hào):20873052) 吉林省教育廳“十二五”科學(xué)技術(shù)研究項(xiàng)目(批準(zhǔn)號(hào):2013499)
【分類(lèi)號(hào)】：O484

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