本文選題：飛秒激光　切入點(diǎn)：光學(xué)薄膜　出處：《紅外與毫米波學(xué)報(bào)》2017年03期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：在飛秒單脈沖激光損傷HfO_2/SiO_2薄膜樣品實(shí)驗(yàn)中,隨著激光能量密度升高,膜層從缺陷導(dǎo)致的點(diǎn)損傷發(fā)展到整層剝落,損傷區(qū)域輪廓由模糊變清晰.研究表明,尺度在納米量級的顆粒缺陷會產(chǎn)生局部的場增強(qiáng)效應(yīng),該效應(yīng)與薄膜干涉場疊加,造成了閾值損傷階段損傷區(qū)域出現(xiàn)大量損傷點(diǎn),且由于飛秒激光對包括缺陷在內(nèi)的薄膜材料的本征損傷特性,使其損傷行為較為確定,隨著激光能量的提升,薄膜出現(xiàn)更大面積的規(guī)則燒蝕區(qū),此時干涉場的作用上升到主導(dǎo)地位,膜層的整層剝落行為掩蓋了缺陷的誘導(dǎo)作用.
[Abstract]:In the experiment of femtosecond monopulse laser damage HfO_2/SiO_2 thin film, with the increase of laser energy density, the film layer developed from point damage caused by defects to the whole layer exfoliation, and the profile of the damage region changed from blur to clarity. Particle defects with nanoscale size will produce local field enhancement effect, which is superimposed with the film interference field, resulting in a large number of damage points in the damage region of threshold damage stage. Due to the intrinsic damage characteristics of femtosecond laser to thin film materials including defects, the damage behavior is determined. With the increase of laser energy, a larger area of regular ablation zone appears in the film. The effect of interference field rises to the dominant position, and the whole delamination of the film obscures the effect of defect induction.
【作者單位】： 國防科學(xué)技術(shù)大學(xué)機(jī)電工程與自動化學(xué)院;中國人民解放軍63880部隊(duì)光電對抗試驗(yàn)和評估技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;國防科學(xué)技術(shù)大學(xué)光電科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51675526,91323302,91523101)~~
【分類號】：O484.4;TN249

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本文編號：1624677