離子輔助沉積對(duì)ZnS薄膜晶體結(jié)構(gòu)及光學(xué)特性的影響
本文關(guān)鍵詞: 薄膜 光學(xué)特性 離子束輔助沉積 硫化鋅薄膜 非均勻性 折射率 出處:《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》2017年10期 論文類型:期刊論文
【摘要】:對(duì)不同離子束密度條件下輔助沉積的ZnS薄膜進(jìn)行了物理及光學(xué)特性研究。研究結(jié)果表明,在離子束輔助沉積ZnS薄膜時(shí)會(huì)出現(xiàn)非均勻生長(zhǎng)現(xiàn)象,且非均勻性和折射率會(huì)隨著離子束密度的增加而增大,薄膜結(jié)晶程度也增加。薄膜的非均勻性增加了薄膜制備和設(shè)計(jì)的難度,尤其是對(duì)多層膜系的制備造成了很大的不確定性。研究結(jié)果為紅外光學(xué)ZnS薄膜的研制提供了重要參考。
[Abstract]:The physical and optical properties of ZnS films deposited under different ion beam densities were investigated. The results show that there is an inhomogeneous growth phenomenon in ion beam assisted deposition of ZnS films. The inhomogeneity and refractive index increase with the increase of ion beam density, and the crystallinity of the films increases. The nonuniformity of the films makes the preparation and design of the films more difficult. Especially for the preparation of multilayer system, the research results provide an important reference for the development of infrared optical ZnS films.
【作者單位】: 中國(guó)科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所光學(xué)薄膜與材料研究室;中國(guó)科學(xué)院大學(xué);
【分類號(hào)】:O484.41
【正文快照】: ZnS既是一種重要的半導(dǎo)體材料,也是一種被廣泛使用的光學(xué)薄膜材料。因具有較寬帶隙,ZnS在光電子領(lǐng)域得到了應(yīng)用廣泛[1-2],同時(shí)因具有從可見至遠(yuǎn)紅外的寬透光區(qū)、中等折射率、易于沉積等特點(diǎn),ZnS也被廣泛用于制作紅外寬光譜增透膜、介質(zhì)濾光片等光學(xué)薄膜器件[3-4]。ZnS薄膜的制
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