各向異性介質(zhì)涂覆PEC平板的反射場分析
本文關(guān)鍵詞:各向異性介質(zhì)涂覆PEC平板的反射場分析 出處:《微波學(xué)報(bào)》2017年01期 論文類型:期刊論文
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【摘要】:利用射線級(jí)數(shù)法分析各向異性介質(zhì)涂覆PEC平板反射場。該分析引入Chew使用的狀態(tài)向量來表征場,利用傳輸矩陣表征各向異性涂覆層中的電磁波經(jīng)過了一次下行路徑和上行路徑之后幅值和相位產(chǎn)生的變化。將涂覆層表面總場表示成一個(gè)射線級(jí)數(shù)。每項(xiàng)級(jí)數(shù)分別判定成入射場、單次反射場及n次反射場,并通過涂覆層頂層和底層表面上的邊界條件進(jìn)行約束。從實(shí)際應(yīng)用的角度考慮,對(duì)n次反射場之和的貢獻(xiàn)選取截?cái)啻螖?shù),并驗(yàn)證了截?cái)啻螖?shù)選取的合理性。文中的算例和分析說明了射線級(jí)數(shù)法的有效性及所得反射場的合理性。
[Abstract]:......
【作者單位】: 武漢大學(xué)電子信息學(xué)院;
【基金】:國家自然科學(xué)基金(61571333)
【分類號(hào)】:TB34;O441.4
【正文快照】: 引言在目標(biāo)表面涂覆雷達(dá)吸波材料(RAM)是目前較為通用的隱身技術(shù),它能在不改變目標(biāo)外形的情況下有效地降低目標(biāo)的雷達(dá)散射截面(RCS)[1-2]。由于涂覆工藝的限制或隱身設(shè)計(jì)的要求,目標(biāo)表面的涂覆層往往是不均勻的,故在進(jìn)行理論分析時(shí)將涂覆介質(zhì)視為各向異性介質(zhì)是非常適宜的。為
【相似文獻(xiàn)】
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9 朱n絳,
本文編號(hào):1349576
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