本文關(guān)鍵詞：受激發(fā)射損耗顯微中空心損耗光的光強分布優(yōu)化研究

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【摘要】：受激發(fā)射損耗顯微技術(shù)(STED)作為一種遠場超分辨顯微成像技術(shù),具有幾十納米甚至幾納米的空間分辨率,是細胞生物學(xué)等研究領(lǐng)域的重要成像工具。圓環(huán)形空心損耗光在物鏡焦點附近的光場強度分布對STED空間分辨率起決定性作用。在高數(shù)值孔徑物鏡聚焦下,光場的偏振態(tài)會對聚焦光場的強度分布產(chǎn)生顯著的影響,此外,顯微系統(tǒng)的軸外像差會嚴重破壞空心損耗光焦斑的中心對稱性�；谑噶垦苌淅碚�,理論模擬了在高數(shù)值孔徑物鏡聚焦條件下,入射渦旋光的偏振態(tài)和光學(xué)系統(tǒng)中的彗差和像散對空心損耗光焦場強度分布的影響。實驗上使用純相位型空間光調(diào)制器來校準光學(xué)系統(tǒng)相差,優(yōu)化變形的損耗光,利用納米探針掃描焦點區(qū)域,測量了其焦場強度分布。測量結(jié)果與由矢量稍微理論觀測的結(jié)果一致。
【作者單位】： 中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機械研究所瞬態(tài)光學(xué)與光子技術(shù)國家重點實驗室;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(61522511,11404389,81427802,11474352) 陜西省自然科學(xué)基礎(chǔ)研究計劃(2016JZ020)
【分類號】：O436
【正文快照】： 0318009-1光學(xué)顯微技術(shù)在細胞生物學(xué)的發(fā)展史上占有極其重要的地位。自17世紀荷蘭人Leeuwenhoek發(fā)明光學(xué)顯微鏡以來,隨著光學(xué)元件的加工工藝和光學(xué)成像技術(shù)的不斷發(fā)展,光學(xué)顯微鏡的成像形式和成像質(zhì)量已發(fā)生了翻天覆地的變化。然而傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡依然受限于阿貝衍射極限,空，

本文編號：1298976