本文關鍵詞：溫和氫氣等離子體對薄層二硫化鉬的影響研究

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【摘要】：薄層二硫化鉬(MoS_2)作為一種二維過渡金屬硫?qū)倩衔?TMDC)具有較好的光學和電學特性,在目前的半導體光電功能器件領域中具有良好的應用前景。本文主要采用一種溫和等離子體技術并在以氫氣作為先驅(qū)氣體的環(huán)境下對薄層二硫化鉬進行處理,研究處理前后以及后續(xù)退火后薄層二硫化鉬的光學與電學特性的變化。研究表明,氫原子在溫和等離子體的作用下會滲入薄層MoS_2,從而改變原始的晶格結(jié)構(gòu)并影響MoS_2的晶格振動,導致熒光淬滅,同時使薄層MoS_2趨于本征或者p型。后續(xù)退火會引起極少數(shù)MoS_2分子與氫原子的重新鍵合,從而改變其帶隙。
【作者單位】： 江南大學電子工程系物聯(lián)網(wǎng)技術應用教育部工程研究中心;
【基金】：國家自然科學基金(61404061) 江蘇省自然科學青年基金(BK20140168) 江蘇省產(chǎn)學研聯(lián)合創(chuàng)新資金(BY2014023-19)
【分類號】：O539;TN304
【正文快照】： Investigation on Few-layer Mo S2Treated by Soft Hydrogen PlasmaZHANG Xue-cheng,XIAO Shao-qing,NAN Hai-yan,ZHANG Xiu-mei,YAN Da-wei,GU Xiao-feng(Engineering Research Center of IOT Technology Application(Ministry of Education),Department of Electronic Engi

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本文編號：1289035