D型平板繞流尾跡流場測試與POD分析
發(fā)布時間:2023-04-05 09:14
以D型平板為研究對象,運用激光多普勒測速(LDA)與粒子成像測速(PIV)技術(shù),開展了雷諾數(shù)ReD=3×103~4×104、弦厚比L/D=1~8之間的D型平板繞流尾跡流場量測與分析。利用本征正交分解(POD)法對尾跡流場進行模態(tài)分解,提取其中能量占比較高的前幾階模態(tài),以探究雷諾數(shù)與弦厚比對D型平板繞流尾跡結(jié)構(gòu)的影響。試驗結(jié)果表明:St數(shù)隨雷諾數(shù)的變化可分為"下降區(qū)"、"過渡區(qū)"和"動態(tài)穩(wěn)定區(qū)"三個區(qū)域,在"動態(tài)穩(wěn)定區(qū)"隨著雷諾數(shù)增大St數(shù)趨向于0.245;St數(shù)隨弦厚比的變化呈"條帶狀"分布在0.23~0.26之間。與其它方案相比,弦厚比L/D=1、雷諾數(shù)ReD=5×103時,前兩階模態(tài)中旋渦結(jié)構(gòu)的空間分布形態(tài)存在明顯差異。雷諾數(shù)ReD=4×104時,繞流尾跡受弦厚比影響較小,流動處于一種大尺度旋渦結(jié)構(gòu)占主導地位的狀態(tài)。
【文章頁數(shù)】:7 頁
【文章目錄】:
0前言
1 試驗裝置及方法
1.1 試驗裝置
1.2 測量方法
1.3 POD方法
2 試驗結(jié)果與分析
2.1 St數(shù)隨雷諾數(shù)與弦厚比的變化
2.2 D型平板繞流尾跡渦結(jié)構(gòu)
2.2.1 不同雷諾數(shù)下繞流尾跡渦結(jié)構(gòu)
2.2.2 不同弦厚比下繞流尾跡渦結(jié)構(gòu)
3 結(jié)論
本文編號:3783150
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0前言
1 試驗裝置及方法
1.1 試驗裝置
1.2 測量方法
1.3 POD方法
2 試驗結(jié)果與分析
2.1 St數(shù)隨雷諾數(shù)與弦厚比的變化
2.2 D型平板繞流尾跡渦結(jié)構(gòu)
2.2.1 不同雷諾數(shù)下繞流尾跡渦結(jié)構(gòu)
2.2.2 不同弦厚比下繞流尾跡渦結(jié)構(gòu)
3 結(jié)論
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