隨著微電子學(xué)領(lǐng)域和光學(xué)領(lǐng)域及其相關(guān)技術(shù)的發(fā)展,對(duì)所需材料表面質(zhì)量的要求越來越高,超光滑表面加工技術(shù)隨之受到發(fā)展和重視。本文研究的線性液動(dòng)壓拋光加工技術(shù)具有加工精度高、材料去除均勻、無表面及亞表面損傷等優(yōu)點(diǎn),在工件的超光滑表面加工中具有很好的應(yīng)用前景。本文對(duì)線性液動(dòng)壓拋光拋光加工方法進(jìn)行了研究�；诹黧w力學(xué)和材料去除原理進(jìn)行了理論分析。進(jìn)行了流體仿真分析,研究了各設(shè)計(jì)參數(shù)和工藝參數(shù)對(duì)產(chǎn)生液動(dòng)壓力大小和分布的影響情況。搭建了線性液動(dòng)壓拋光加工試驗(yàn)平臺(tái),開展相關(guān)拋光加工試驗(yàn),研究了加工工藝參數(shù)對(duì)加工效率和加工效果的影響,并驗(yàn)證了該方法的超光滑表面加工能力。論文主要研究內(nèi)容如下:1、根據(jù)流體動(dòng)力學(xué)基本方程、流體動(dòng)壓潤滑理論以及材料去除機(jī)理,對(duì)該拋光加工方法進(jìn)行了理論研究,揭示了線性液動(dòng)壓拋光加工實(shí)現(xiàn)材料去除的工作原理。2、通過ANSYS Fluent流體仿真軟件進(jìn)行了線性液動(dòng)壓拋光的數(shù)值模擬,分析了各參數(shù)對(duì)產(chǎn)生流體動(dòng)壓力大小和分布的變化規(guī)律,為后續(xù)拋光輥?zhàn)釉O(shè)計(jì)及工藝參數(shù)的選擇提供了依據(jù)。3、搭建了線性液動(dòng)壓拋光加工試驗(yàn)平臺(tái),對(duì)K9玻璃進(jìn)行了拋光加工試驗(yàn),試驗(yàn)結(jié)果表明線性液動(dòng)壓加工具有超光滑表面... 

【文章來源】：浙江工業(yè)大學(xué)浙江省

【文章頁數(shù)】：83 頁

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

機(jī)械拋光裝置示意圖

使被加工工件與拋光盤上的各點(diǎn)隨機(jī)接觸，從而使工件表面的材料去除更加均勻。浴法拋光加工裝置示意圖如圖1-2 所示[5]。相比傳統(tǒng)機(jī)械拋光，浴法拋光加工過程產(chǎn)生的熱量可快速擴(kuò)散到拋光液中，工件與拋光盤的熱變形小，同時(shí)浴法拋光中工件與拋光盤接觸柔和，無“邊緣效應(yīng)”的影響。但是浴法拋光技術(shù)也存在一定的技術(shù)缺陷，會(huì)在被加工工件的表面產(chǎn)生亞表面損傷，并且拋光盤容易被磨損，導(dǎo)致加工的穩(wěn)定性和可重復(fù)性較差[6]。載荷拋光液研磨盤工件

圖 1-3 化學(xué)機(jī)械拋光示意圖[9]Figure 1-3. Schematic diagram of chemical mechanical polishing磁流變拋光磁流變拋光（Magnetorheo1ogical Finishing，MRF）是利用磁流變拋光液效應(yīng)實(shí)現(xiàn)拋光加工的。磁流變液在不加磁場(chǎng)時(shí)是可流動(dòng)的液體，在外加用下，磁流變液的流變特性會(huì)發(fā)生急劇變化，表現(xiàn)為類似固體的性質(zhì)，帶凸起，成為具有粘塑性的“磨頭”。當(dāng)工件與“磨頭”發(fā)生快速相對(duì)工件表面會(huì)受到很大的剪切力，從而實(shí)現(xiàn)工件表面材料的去除，其示意4 所示[14]。磁性拋光磨粒的研制和磁流體拋光過程的數(shù)字化控制是磁流體拋光的兩點(diǎn)。Manas Das 等人[15]研究了磁流變拋光的加工工藝，提出了材料去除率糙度的預(yù)測(cè)模型，發(fā)現(xiàn)表面粗糙度隨電流和拋光循環(huán)次數(shù)的增加而降低實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了理論的正確性。彭小強(qiáng)等人[16]對(duì)磁流變液的配制以及加工工行了研究，配置出水基磁流變拋光液，研制了磁流變拋光樣機(jī)，并對(duì) B璃進(jìn)行拋光加工實(shí)驗(yàn)，通過加工使工件面型精度達(dá)到 RMS 0.66 nm。

【參考文獻(xiàn)】：
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本文編號(hào)：2990623