面向工藝設計的材料去除形素體積模型及其推理和評價研究
【學位單位】:合肥工業(yè)大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2003
【中圖分類】:TH164
【部分圖文】:
圖3.3材料去除形素體積復制方法3,7.1模式模式是一個用來得到基本形狀復制品的規(guī)則。庫中所有的模式都是二維的并應用于材料去除形素體積的XY平面上。模式不包括任何的基本體積。模式的本地坐標系就是材料去除形素體積的坐標系。有兩種主要的模式,即“平行等距陣列模式”和“圓環(huán)形狀模式”,下文將采用它們的簡稱,即“平行陣列模式”和“圓模式”o這些模式包括特定模式元素的省灘蚜口編參選項。模式中的省略指省略其中元素的一個索引(對于圓模式)或兩個索引(對于平行陣列模式)。偏移模式就是確定要偏移的元素并給出提供偏移方向和大小的矢量。材料去除形素體積中由模式確定的第一個位置就是其基革.澎{疾屬性中的第一個材料去除形素體積。模式的屬性將決定如何根據(jù)這個起始點來確定額外的位置。材料去除形靂體積寡才洋攜囑性中的第一個去除體積的拷貝就位于這些位置上。如果寡砂莽舉疚屬性中有多于一個的材料去除形素體積,那么在每一個
斜角端部的差別
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