(SiC)_p表面修飾、表征及應(yīng)用的研究
發(fā)布時間:2020-07-02 10:53
【摘要】:在實際工程中,由于材料硬度低、耐磨性差造成的經(jīng)濟損失是巨大的,而采用特種金屬材料往往又帶來其成本的增加,故以低成本原料來合成較高硬度及耐磨性的材料是當(dāng)前國內(nèi)外材料領(lǐng)域研究的又一熱點。 (SiC)_p是一種性能優(yōu)良的非氧化物陶瓷材料,具有硬度高、耐磨、耐高溫、成本低等優(yōu)點,被廣泛地用作顆粒增強體來制備金屬基復(fù)合材料,同時也是制備工程材料、功能材料的基本原料。國內(nèi)外許多研究者都在積極致力于(SiC)_p的應(yīng)用基礎(chǔ)研究。但(SiC)_p直接使用時,還存在一些關(guān)鍵的技術(shù)問題需要解決,例如:(SiC)_p的小尺寸效應(yīng),使其在一定尺寸范圍內(nèi)極易團聚,吸附其它物質(zhì)或微粒,導(dǎo)致一些優(yōu)異性能喪失;(SiC)_p增強金屬基復(fù)合材料時,(SiC)_p的共價鍵與金屬基體的金屬鍵之間的本質(zhì)差別,使界面潤濕性能很差;(SiC)_p與金屬基體接觸時,高溫下會發(fā)生顯著的固相界面反應(yīng),改變金屬基體的微結(jié)構(gòu)與性能,使其硬度及耐磨性降低等。 在一定經(jīng)驗積累的基礎(chǔ)上,本文首次在常壓低溫下,采用化學(xué)鍍技術(shù),選擇合適的工藝參數(shù),對(SiC)_p進行了低成本的表面修飾,獲得了鍍層連續(xù),無光滑(SiC)_p裸露的高質(zhì)量的改性(SiC)_p[簡寫為(Ni/SiC)_p],其實驗結(jié)果可與國外采用微波刻蝕等非常規(guī)技術(shù)的實驗結(jié)果相媲美。SEM、EDS、XRD、TEM等測試結(jié)果表明:修飾后的(Ni/SiC)_p較修飾前的(SiC)_p形貌、組成、結(jié)構(gòu)發(fā)生改變。 首次以(Ni/SiC)_p為第二相粒子,制備出鐵基復(fù)合鍍層,觀察了鍍層的形貌、組織結(jié)構(gòu),測試了鍍層的硬度、厚度。結(jié)果顯示:Ni-P-(Ni/SiC)_p與常見的Ni-P鍍層、Ni-P-(SiC)_p鍍層相比,組織均勻、沉積量大,鍍層厚度增加,硬度增加,耐磨性提高。同時研究、分析了pH值、溫度、攪拌速度、表面活性劑等多種因素對以(Ni/SiC)_p為第二相粒子所制備的復(fù)合鍍層的性
【學(xué)位授予單位】:哈爾濱工程大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2005
【分類號】:TB321
本文編號:2738110
【學(xué)位授予單位】:哈爾濱工程大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2005
【分類號】:TB321
【引證文獻】
相關(guān)碩士學(xué)位論文 前1條
1 李佳民;Ni-P-納米SiC化學(xué)復(fù)合鍍分散工藝的試驗研究[D];東北農(nóng)業(yè)大學(xué);2006年
本文編號:2738110
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/jixiegongcheng/2738110.html
最近更新
教材專著