研究了Ti-6Al-4V表面ZrO2/TiO2復(fù)合陶瓷層的生長(zhǎng)規(guī)律。采用SEM和XRD分析了氧化時(shí)間對(duì)陶瓷層的厚度、表面和截面形貌、元素分布和相組成的影響。結(jié)果表明:膜層呈現(xiàn)出先快后慢最后趨于平穩(wěn)的生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué),最終膜層厚度44μm。陶瓷膜表面分布著富Zr的陶瓷顆粒,這是由于氧化膜外層的火花放電形成的特征結(jié)構(gòu)。膜層由m-ZrO2、Rutile-TiO2和ZrTiO4組成,Zr元素含量最高可達(dá)50.47%。隨著氧化時(shí)間的增長(zhǎng),膜層表面的Zr含量逐漸降低,m-ZrO2逐漸減少而Rutile-TiO2逐漸增多,并且出現(xiàn)了新相Ti2ZrO6。

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【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)材料及方法
2 結(jié)果與分析
    2. 1 膜層的生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)
    2. 2 膜層微觀形貌
    2. 3 元素分布特點(diǎn)
    2. 4 膜層的相組成及成膜機(jī)理
3 結(jié)論



本文編號(hào)：3844000