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磁流變拋光加工中磁場發(fā)生裝置的設(shè)計(jì)與實(shí)驗(yàn)

發(fā)布時間:2023-03-11 03:37
  目的研究磁流變拋光加工中磁場發(fā)生裝置設(shè)計(jì)對拋光效果的影響。方法設(shè)計(jì)三種基于電磁鐵的磁場發(fā)生裝置,分別為圓形陣列、扇形和環(huán)形磁場,進(jìn)行三維靜磁場有限元仿真,對比分析不同磁場發(fā)生裝置的磁場強(qiáng)度、方向云圖及5 mm高處磁場強(qiáng)度曲線。為保證加工過程中磁場和磁流變液的穩(wěn)定性,針對三種磁場結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不同的冷卻方式。制造環(huán)形磁場發(fā)生裝置,將其集成到自制磁流變拋光平臺,使用表面經(jīng)過陽極氧化的鋁合金樣件進(jìn)行拋光實(shí)驗(yàn)。結(jié)果圓形陣列磁場極頭間隙處形成高磁場區(qū),隨著高度的升高,磁場強(qiáng)度迅速下降。在離極頭5 mm高處,磁場強(qiáng)度從300 mT下降到約145 mT,拋光區(qū)域磁場強(qiáng)度較小。扇形磁場5 mm高處,磁場強(qiáng)度呈拋物線分布,最大可達(dá)330 mT,磁場方向單一,有效拋光區(qū)域占比較小。環(huán)形磁場5mm高處,磁場強(qiáng)度最大可達(dá)240m T,工件運(yùn)動整個過程都處于高磁場區(qū)域,拋光效率高。結(jié)論環(huán)形磁場發(fā)生裝置磁場強(qiáng)度和磁場方向都滿足拋光要求,有效拋光區(qū)域較大,拋光后表面質(zhì)量明顯改善,拋光效果較好。

【文章頁數(shù)】:8 頁

【文章目錄】:
1 磁流變拋光平臺設(shè)計(jì)
2 磁場發(fā)生裝置的設(shè)計(jì)
    2.1 圓形陣列磁場
    2.2 扇形磁場
    2.3 環(huán)形磁場
3 實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證
4 結(jié)論



本文編號:3759122

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