發(fā)布時(shí)間：2022-12-22 00:38

　　鋁合金基材在新時(shí)代科技高速發(fā)展的背景下有著廣泛的應(yīng)用,其高反射特性作為主要的鏡面材料在軍事打擊、民用監(jiān)測(cè)方面發(fā)揮著顯著的優(yōu)勢(shì)。但鋁合金材料因加工后存在刀紋導(dǎo)致表面粗糙度比較大,一定程度上影響了光學(xué)效果,且在可見(jiàn)光到紅外范圍反射率不如銀,要制造反射率更高的光學(xué)系統(tǒng),考慮在鋁合金6061表面沉積高反射復(fù)合銀膜以提高反射率。為了達(dá)到合適的反射率指標(biāo),對(duì)不同表面質(zhì)量的基底進(jìn)行銀系高反射膜的沉積,以反饋鋁合金加工的指標(biāo);同時(shí)為了提高反射率效果,在傳統(tǒng)的電子束蒸發(fā)制備工藝的基礎(chǔ)上,對(duì)銀膜沉積完成后采用了Ar+轟擊微加工銀膜表面的方式以平整刀紋帶來(lái)的凸起晶粒。本文通過(guò)光學(xué)設(shè)計(jì)軟件,設(shè)計(jì)了不同的高反射膜系進(jìn)行仿真對(duì)比,分析了各膜層厚度、電介質(zhì)膜光學(xué)性能、傾斜入射給反射率效果帶來(lái)的影響。對(duì)反射率最優(yōu)的設(shè)計(jì)采用電子束蒸發(fā)的方式進(jìn)行了制備。檢測(cè)了不同沉積和轟擊條件下各基底樣本的表面粗糙度、表面晶粒形貌和反射率情況,并對(duì)其原理進(jìn)行了深入分析。通過(guò)反射率與晶粒形貌等的對(duì)比分析,發(fā)現(xiàn)未轟擊時(shí),蒸發(fā)速率高的銀系膜反射率更高,Ar+轟擊銀膜表面可以起到平滑表面晶粒,但同時(shí)會(huì)凸顯基底表面的刀紋,此兩者對(duì)反射率的效果是矛... 

【文章頁(yè)數(shù)】：72 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
ABSTRACT
第1章 緒論
    1.1 課題來(lái)源及研究背景和意義
        1.1.1 課題的來(lái)源
        1.1.2 課題研究的背景及意義
    1.2 銀系高反射膜的研究進(jìn)展
        1.2.1 膜系結(jié)構(gòu)研究
        1.2.2 鍍膜參數(shù)研究
        1.2.3 腐蝕性能研究
        1.2.4 國(guó)內(nèi)外文獻(xiàn)綜述簡(jiǎn)析
    1.3 主要研究?jī)?nèi)容
第2章 銀系高反射膜的設(shè)計(jì)與優(yōu)化仿真
    2.1 引言
    2.2 光學(xué)薄膜反射理論
        2.2.1 光在介質(zhì)界面上的反射率特性
        2.2.2 金屬膜增反射原理
    2.3 膜層材料的選擇
    2.4 膜層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與仿真優(yōu)化
        2.4.1 Tfcalc光學(xué)設(shè)計(jì)仿真軟件的介紹
        2.4.2 環(huán)境參數(shù)的設(shè)定
        2.4.3 銀膜厚度仿真分析
        2.4.4 銀系高反射膜的設(shè)計(jì)與優(yōu)化仿真
        2.4.5 電介質(zhì)膜厚度微調(diào)仿真
        2.4.6 電介質(zhì)光學(xué)參數(shù)的影響仿真
        2.4.7 波長(zhǎng)與入射角的影響仿真
    2.5 本章小結(jié)
第3章 銀系高反射膜制備實(shí)驗(yàn)
    3.1 引言
    3.2 鍍膜基底的制備
    3.3 鍍膜設(shè)備與材料
        3.3.1 鍍膜設(shè)備
        3.3.2 鍍膜材料
    3.4 高反射銀膜的制備
        3.4.1 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)
        3.4.2 鍍膜前工作準(zhǔn)備
        3.4.3 制備工藝流程
    3.5 本章小結(jié)
第4章 銀系高反射膜的性能檢測(cè)與分析
    4.1 引言
    4.2 表面形貌與晶粒表征
        4.2.1 掃描電子顯微鏡(SEM)
        4.2.2 沉積速率與Ar+轟擊對(duì)銀膜晶粒的影響
        4.2.3 鋁合金基底銀膜沉積生長(zhǎng)分析
    4.3 表面粗糙度檢測(cè)分析
        4.3.1 3D表面光學(xué)表面輪廓儀
        4.3.2 沉積速率與Ar+轟擊對(duì)銀膜表面粗糙度的影響
        4.3.3 沉積速率與Ar+轟擊對(duì)增反射銀膜表面粗糙度的影響
        4.3.4 膜厚與刀紋情況分析
    4.4 反射率測(cè)量與分析
        4.4.1 UH4150分光光度計(jì)
        4.4.2 銀膜反射率結(jié)果與分析
        4.4.3 增反射復(fù)合銀膜反射率結(jié)果與分析
        4.4.4 銀膜腐蝕情況分析
    4.5 Ar+轟擊影響分析
    4.6 本章小結(jié)
結(jié)論
參考文獻(xiàn)
致謝



本文編號(hào)：3723082