磁控濺射法制備氧化鋁/氧化鋯雙層復(fù)合涂層的氫滲透性能研究
發(fā)布時(shí)間:2021-12-02 12:36
采用射頻反應(yīng)磁控濺射法在316L不銹鋼基底上沉積了Al2O3/ZrO2雙層復(fù)合涂層。利用掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射(XRD)、顯微劃痕法分析了涂層的微觀形貌、物相組成和膜基結(jié)合力,采用氣相氫滲透裝置對(duì)涂層的氫滲透行為進(jìn)行了表征。結(jié)果表明,Al2O3/ZrO2涂層具有非晶氧化鋁、氧化鋯單斜相和四方相,涂層結(jié)構(gòu)致密,呈柱狀生長(zhǎng)方式,厚度為320 nm。顯微劃痕結(jié)果表明,Al2O3/ZrO2涂層的膜基結(jié)合力為8.5 N,較氧化鋁涂層有明顯提高,氧化鋁涂層的膜基結(jié)合力為4.5 N。此外,Al2O3/ZrO2涂層具有優(yōu)異的阻氫滲透性能,其氫滲透阻擋因子在550700℃溫度范圍內(nèi)為206950。Al2O3/ZrO2涂層的氫滲透激活能為132 k J·mol-1,高于單層氧化鋁和氧化鋯涂層的激活能,雙層復(fù)合涂層的阻氫性能較單層涂層有明顯提高。
【文章來(lái)源】:稀有金屬. 2015,39(10)北大核心EICSCD
【文章頁(yè)數(shù)】:6 頁(yè)
【文章目錄】:
1實(shí)驗(yàn)
1.1材料制備
1.2材料表征
2結(jié)果與討論
3結(jié)論
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Microstructure and properties of Al2O3 dispersion-strengthened copper fabricated by reactive synthesis process[J]. Xue-Hui Zhang,Chen-Guang Lin,Shun Cui,Zeng-De Li. Rare Metals. 2014(02)
[2]316L不銹鋼基體氧化鋁涂層的氫滲透性能[J]. 李帥,何迪,劉曉鵬,張超,王樹(shù)茂,于慶河,邱昊辰,蔣利軍. 無(wú)機(jī)材料學(xué)報(bào). 2013(07)
[3]磁控濺射制備多孔柱狀晶ZrO2薄膜[J]. 寧珍珍,余傳杰,李明,謝斌. 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)學(xué)報(bào). 2013(02)
[4]射頻磁控反應(yīng)濺射制備Al2O3薄膜的工藝研究[J]. 祁俊路,李合琴. 真空與低溫. 2006(02)
[5]沉積溫度對(duì)ZrO2薄膜相結(jié)構(gòu)和透射率的影響[J]. 劉建華,徐可為. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2004(05)
[6]反應(yīng)RF磁控濺射法制備氧化鋁薄膜及其介電損耗[J]. 趙登濤,朱炎,狄國(guó)慶. 真空科學(xué)與技術(shù). 2000(04)
[7]鈦基-TiN-TiC系梯度薄膜材料的生物摩擦磨損特性研究[J]. 楊敏,鄭昌瓊,冉均國(guó),鐘毓茂,張欣苑. 功能材料. 2000(02)
[8]UHM WPE與鈦基-TiN-TiC系梯度薄膜材料對(duì)磨的生物摩擦磨損特性[J]. 楊敏,鄭昌瓊,冉均國(guó),張皖欣,李祝. 生物醫(yī)學(xué)工程學(xué)雜志. 2000(01)
碩士論文
[1]射頻磁控濺射法制備ZrO2薄膜及其特性研究[D]. 溫吉穎.哈爾濱理工大學(xué) 2012
本文編號(hào):3528455
【文章來(lái)源】:稀有金屬. 2015,39(10)北大核心EICSCD
【文章頁(yè)數(shù)】:6 頁(yè)
【文章目錄】:
1實(shí)驗(yàn)
1.1材料制備
1.2材料表征
2結(jié)果與討論
3結(jié)論
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Microstructure and properties of Al2O3 dispersion-strengthened copper fabricated by reactive synthesis process[J]. Xue-Hui Zhang,Chen-Guang Lin,Shun Cui,Zeng-De Li. Rare Metals. 2014(02)
[2]316L不銹鋼基體氧化鋁涂層的氫滲透性能[J]. 李帥,何迪,劉曉鵬,張超,王樹(shù)茂,于慶河,邱昊辰,蔣利軍. 無(wú)機(jī)材料學(xué)報(bào). 2013(07)
[3]磁控濺射制備多孔柱狀晶ZrO2薄膜[J]. 寧珍珍,余傳杰,李明,謝斌. 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)學(xué)報(bào). 2013(02)
[4]射頻磁控反應(yīng)濺射制備Al2O3薄膜的工藝研究[J]. 祁俊路,李合琴. 真空與低溫. 2006(02)
[5]沉積溫度對(duì)ZrO2薄膜相結(jié)構(gòu)和透射率的影響[J]. 劉建華,徐可為. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2004(05)
[6]反應(yīng)RF磁控濺射法制備氧化鋁薄膜及其介電損耗[J]. 趙登濤,朱炎,狄國(guó)慶. 真空科學(xué)與技術(shù). 2000(04)
[7]鈦基-TiN-TiC系梯度薄膜材料的生物摩擦磨損特性研究[J]. 楊敏,鄭昌瓊,冉均國(guó),鐘毓茂,張欣苑. 功能材料. 2000(02)
[8]UHM WPE與鈦基-TiN-TiC系梯度薄膜材料對(duì)磨的生物摩擦磨損特性[J]. 楊敏,鄭昌瓊,冉均國(guó),張皖欣,李祝. 生物醫(yī)學(xué)工程學(xué)雜志. 2000(01)
碩士論文
[1]射頻磁控濺射法制備ZrO2薄膜及其特性研究[D]. 溫吉穎.哈爾濱理工大學(xué) 2012
本文編號(hào):3528455
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