利用多弧離子鍍技術(shù)沉積TiN涂層,并在空氣中對該涂層進(jìn)行了500⁶80℃范圍內(nèi)的氧化實(shí)驗(yàn).通過SEM與XRD技術(shù)分析了實(shí)驗(yàn)制備的TiN涂層及其氧化產(chǎn)物的結(jié)構(gòu)形貌,結(jié)果表明:多弧離子鍍技術(shù)所沉積的TiN涂層表面較為粗糙,存在大量顆粒與凹坑;TiN涂層在空氣中的氧化產(chǎn)物為TiO2,550℃時(shí)存在較輕程度的氧化行為,隨著溫度的升高,氧化作用加劇,在溫度為650℃時(shí)TiN涂層氧化程度加深,但剝落并不明顯,當(dāng)溫度超過650℃達(dá)到680℃,TiN涂層完全氧化,部分區(qū)域因?yàn)閼?yīng)力作用而發(fā)生嚴(yán)重剝落. 

【文章來源】：中南民族大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2015,34(04)北大核心

【文章頁數(shù)】：4 頁

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)部分
2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論
    2. 1 Ti N涂層表面形貌與結(jié)構(gòu)分析
    2. 2 不同溫度Ti N涂層氧化表面觀察
    2. 3 Ti N涂層各溫度下氧化物物相分析
3 結(jié)論



本文編號：3486793