發(fā)布時(shí)間：2021-08-29 22:51

　　利用磁控濺射（PVD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）以及熱擴(kuò)散滲硅方法在TC4鈦合金表面制備WSi₂/W5Si₃復(fù)合涂層。采用X射線衍射儀、掃描電鏡、能譜儀對復(fù)合涂層的結(jié)構(gòu)、組織形貌以及微區(qū)化學(xué)成分進(jìn)行分析;對復(fù)合涂層顯微硬度、附著力以及耐磨性進(jìn)行測試。結(jié)果表明:WSi₂/W5Si₃復(fù)合涂層的WSi₂層和W₅Si₃層厚度分別為20、56μm,顯微硬度平均值分別為10.70和8.32 GPa; WSi₂/W₅Si₃復(fù)合涂層與基體結(jié)合力為171.6 N; WSi₂/W5Si₃復(fù)合涂層表面摩擦因數(shù)為0.75,磨損率為1.184×10^-6mm³·mm^-1。在TC4鈦合金表面制備的WSi₂/W₅Si₃復(fù)合涂層結(jié)構(gòu)... 

【文章來源】：鈦工業(yè)進(jìn)展. 2020,37(05)北大核心

【文章頁數(shù)】：5 頁

【部分圖文】：

涂層與鈦基體的劃痕聲發(fā)射圖譜

經(jīng)熱擴(kuò)散滲硅處理后復(fù)合涂層的組織形貌如圖3a所示。復(fù)合涂層由致密表層、保留CVD沉積鎢組織形態(tài)特征的次表層和與之臨近的疏松互擴(kuò)散區(qū)組成。復(fù)合涂層截面主要元素分布如圖3b所示。從W、Si元素線分布可以看出，經(jīng)過硅化處理后CVD沉積的純鎢涂層已經(jīng)消失，W、Si元素已擴(kuò)散進(jìn)入鈦基體。復(fù)合涂層的表層及次表層中W、Si元素含量固定，為擴(kuò)散反應(yīng)生成化合物層。能譜微區(qū)成分分析結(jié)果如圖4所示。表層能譜分析結(jié)果中W與Si原子比接近1∶2，應(yīng)為WSi2層，其厚度為20μm;次表層能譜分析結(jié)果中W與Si原子比接近5∶3，應(yīng)為W5Si3層，其厚度為56μm。圖3 WSi2/W5Si3復(fù)合涂層截面形貌及線掃描能譜圖

WSi2/W5Si3復(fù)合涂層截面形貌及線掃描能譜圖

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]鈦合金的摩擦磨損性能及其改善方法[J]. 應(yīng)揚(yáng),李磊,趙彬,賈蔚菊,李思蘭,趙永慶.  有色金屬材料與工程. 2019(03)
[2]鈦合金高溫抗氧化機(jī)理研究[J]. 史小波,吳旌賀.  河南教育學(xué)院學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2018(03)
[3]鈦合金在航空航天領(lǐng)域中的應(yīng)用探討[J]. 何丹琪,石顥.  中國高新技術(shù)企業(yè). 2016(27)
[4]TC4鈦合金表面低壓滲氮層的顯微組織與耐磨性能[J]. 楊闖,劉靜,馬亞芹,洪流,王華.  機(jī)械工程材料. 2016(06)
[5]鈦及鈦合金的縫隙腐蝕行為[J]. 楊專釗,劉道新,張曉化.  腐蝕與防護(hù). 2013(04)
[6]鈦合金表面處理技術(shù)的研究進(jìn)展[J]. 姜海濤,邵忠財(cái),魏守強(qiáng).  電鍍與精飾. 2010(10)
[7]航空緊固件用鈦合金的研究進(jìn)展[J]. 趙慶云,徐鋒.  中國有色金屬學(xué)報(bào). 2010(S1)
[8]高溫鈦合金及鈦鋁金屬間化合物腐蝕與防護(hù)[J]. 唐兆麟,王福會(huì),吳維.  稀有金屬. 1996(04)

碩士論文
[1]TB2合金表面抗高溫氧化TiAl涂層的制備[D]. 趙龍.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2013



本文編號：3371524