為了揭示真空條件下氬離子、氬離子/負(fù)偏壓、靶材/負(fù)偏壓三種清洗工藝,以及負(fù)偏壓與磁場(chǎng)協(xié)同作用對(duì)微弧氧化（MAO）涂層表面結(jié)構(gòu)、厚度、硬度及粗糙度的影響規(guī)律,采用MAO和多弧離子鍍技術(shù)在鎂合金AZ31B表面制備鍍層,利用掃描電子顯微鏡考察鍍層的微觀形貌;納米壓痕儀、測(cè)厚儀、粗糙度儀等手段考察鍍層的厚度、硬度以及粗糙度隨處理工藝變化的規(guī)律。當(dāng)靶基距離為380 mm時(shí),氬離子清洗的MAO涂層表面無明顯變化;氬離子與負(fù)偏壓協(xié)同作用時(shí),MAO涂層表面的突起物隨負(fù)偏壓增加而減少,清洗效果變好;但負(fù)偏壓超過500 V時(shí),二者協(xié)同作用形成深孔而破壞了MAO涂層,失去MAO涂層對(duì)鎂合金基體的保護(hù)作用。當(dāng)Al靶與負(fù)偏壓協(xié)同清洗時(shí),負(fù)偏壓超過200 V也致使MAO涂層呈現(xiàn)深孔特征。引入磁場(chǎng)沉積MAO/Al鍍層時(shí),由于磁場(chǎng)的磁過濾作用使得鍍層表面沉積物分布均勻,無明顯大顆粒熔滴。施加負(fù)偏壓清洗容易破壞MAO涂層的表面結(jié)構(gòu),其與氬離子協(xié)同清洗時(shí)不應(yīng)高于500 V,與鋁靶協(xié)同清洗時(shí)應(yīng)不高于200 V。與單一的負(fù)偏壓或磁場(chǎng)沉積鍍層相比,二者協(xié)同作用能獲得致密均勻的厚MAO/Al鍍層。 

【文章來源】：真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2020,40(11)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：7 頁

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)
2 結(jié)果與討論
    2.1 表面微觀形貌
        2.1.1 靶基距離與氬離子清洗MAO涂層表面形貌
        2.1.2 負(fù)偏壓與氬離子清洗MAO涂層表面形貌
        2.1.3 負(fù)偏壓與靶材清洗MAO涂層表面形貌
    2.2 沉積電參數(shù)與MAO/Al涂層表面形貌
    2.3 沉積電參數(shù)與MAO/Al涂層厚度
    2.4 沉積電參數(shù)與MAO/Al涂層硬度
    2.5 電參數(shù)與MAO/Al涂層粗糙度
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
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[4]電磁激勵(lì)多弧離子鍍AlCrN硬質(zhì)膜結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能研究[D]. 陳忠.安徽工業(yè)大學(xué) 2014



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