為了解決傳統(tǒng)高功率脈沖磁控濺射（HPPMS）平均沉積速率低的問題,研究提出一種新型的雙級(jí)HPPMS技術(shù),即在一個(gè)脈沖周期內(nèi)具有兩個(gè)連續(xù)的、獨(dú)立可調(diào)的脈沖階段。通過對(duì)雙級(jí)HPPMS電場的合理調(diào)配,可制備得到結(jié)構(gòu)致密的TiN鍍層,研究了雙級(jí)HPPMS靶電流對(duì)TiN鍍層微觀結(jié)構(gòu)及耐蝕性的影響。結(jié)果表明,當(dāng)靶電流增大至20 A時(shí),靶面形貌由小凹坑轉(zhuǎn)變?yōu)榇竺娣e凹坑,說明鍍料粒子的脫靶方式由碰撞濺射轉(zhuǎn)變?yōu)樯A或蒸發(fā)。同時(shí),當(dāng)靶電流為10 A時(shí),鍍層顆粒呈現(xiàn)三棱錐狀結(jié)構(gòu),平均晶粒尺寸為11 nm;當(dāng)靶電流增大至25 A時(shí),鍍層顆粒呈現(xiàn)光滑致密的圓胞狀結(jié)構(gòu),平均晶粒尺寸為18 nm,光滑致密的組織結(jié)構(gòu)使鍍層具有較好的耐蝕性。 

【文章來源】：稀有金屬材料與工程. 2020年09期 北大核心

【文章頁數(shù)】：6 頁

【文章目錄】：
1 Experiment
2 Results and Discussion
    2.1 Microstructure analysis
    2.2 Leave-target mode of deposited particles
    2.3 Deposition rate analysis
    2.4 Corrosion resistance analysis
3 Conclusions



本文編號(hào)：2954554