以Q235碳鋼為基底進(jìn)行Ni–P–Si₃N₄復(fù)合化學(xué)鍍。以鍍層的顯微硬度為指標(biāo),通過(guò)正交試驗(yàn)得到的最優(yōu)配方和工藝條件為:硫酸鎳29 g/L,次磷酸鈉30 g/L,氟化氫銨15 g/L,檸檬酸三鈉10 g/L,硫脲0.003 g/L,氮化硅2 g/L,十二烷基硫酸鈉0.04 g/L,pH 4.5,溫度85℃,時(shí)間1.5 h。該條件下所得Ni–P–Si₃N₄復(fù)合鍍層為非晶態(tài)結(jié)構(gòu),表面平整致密,厚度47.8μm,顯微硬度313.4 HV,結(jié)合力良好。 

【文章來(lái)源】：電鍍與涂飾. 2020年12期 北大核心

【文章頁(yè)數(shù)】：3 頁(yè)

【部分圖文】：

Ni–P–Si3N4復(fù)合鍍層的金相顯微照片(400×)和SEM照片

Ni–P–Si3N4復(fù)合鍍層的XRD譜圖

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號(hào)：2942618