發(fā)布時間：2020-12-07 22:12

　　實驗基于同一臺熱絲增強等離子體平衡磁控濺射鍍膜機,在SKH51高速鋼基體上分別實現(xiàn)等離子體滲氮和沉積氮化鉻涂層,最后初步實現(xiàn)了滲氮鍍膜一體化。在SKH51鋼基體滲氮的實驗中,主要研究滲氮時間與熱絲放電電流對滲氮層的擴散速率、顯微形貌、組織結(jié)構(gòu)和力學性能的影響。在沉積氮化鉻涂層的實驗中,主要研究了靶電流、熱絲放電電流、鍍膜偏壓這些因素對涂層的沉積速率、形貌、組織結(jié)構(gòu)和力學性能的影響。在滲氮/鍍膜一體化的實驗中,重點探討了過渡層對復合處理效果的影響。結(jié)果表明:對高速鋼進行純氮氣氛等離子體滲氮后,提高了納米硬度和耐磨性。隨著氮化時間的增加,滲氮層厚度增加,氮化物逐漸析出并最終呈網(wǎng)狀分布。增加熱絲放電電流,滲氮層厚度大幅提高,氮化物析時間縮短。在制備氮化鉻涂層實驗中,隨靶電流增加,涂層沉積速率增加,最大為1.10μm*h-1。但是涂層結(jié)構(gòu)疏松,納米硬度和結(jié)合強度下降;隨熱絲放電電流增大,對涂層沉積速率略有提高,涂層結(jié)構(gòu)致密,納米硬度達到30GPa,結(jié)合強度有增大趨勢,當熱絲放電電流為8A時不再增加。隨著基體偏壓增加,涂層沉積速率下降,涂層結(jié)構(gòu)趨于致密,納米硬度增大,結(jié)合強度先增大后減小,所以基... 

【文章來源】：遼寧科技大學遼寧省

【文章頁數(shù)】：76 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

中性原子轟擊理論示意圖

熱燈絲放電等離子體源示意圖

樣的電磁場中不會直接飛向陽極，而是做擺線運動。電子電子與氬原子碰撞的機率，碰撞后產(chǎn)生氬離子和二次電子下轟擊靶材，如圖 1.3。磁場的引入提高粒子間碰撞的幾高。同時電子能量逐漸消耗最終被吸收，減弱了高能粒子控濺射具有低溫高速濺射的特點，由磁控濺射制備的涂層。

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：2903976