低溫低壓等離子弧輔助奧氏體不銹鋼離子滲氮工藝研究
【學(xué)位授予單位】:華南理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TG156.82
【圖文】:
華南理工大學(xué)工程碩士學(xué)位論文稱為正常輝光放電區(qū)。常輝光放電區(qū)。BC 段后,從 C 點(diǎn)開始,隨著電流的增加,電這個(gè)階段(CD 段)被稱為異常輝光放電區(qū)。光放電區(qū)。D 點(diǎn)后,電流突然增大而陰極和陽極之間的電壓極表面出現(xiàn)強(qiáng)烈電弧,該階段被稱為電弧放電區(qū)。子滲氮過程處于異常輝光放電區(qū)(即 CD 區(qū)間)。伏安特性曲線電陰極表面會(huì)出現(xiàn)強(qiáng)烈電弧,這種強(qiáng)烈的電弧會(huì)使被處理的工
NASS 試樣的顯微硬度、結(jié)構(gòu)、組成相和磁性有很大的影SS 材料達(dá)到最高飽和磁化強(qiáng)度 Ms,磁化率 χ,矯頑磁場子注入技術(shù)(PSΙΙ)是由美國威斯康辛大學(xué) ConradJ.R.教等離子體浸沒離子注入示意圖。通過避免常規(guī)離子注入固植入技術(shù)中脫離出來。在 PSII 中,要植入的目標(biāo)直接放置到高的負(fù)電位。目標(biāo)周圍形成等離子體鞘層,離子同時(shí)A.教授[23]等提出等離子體浸沒離子注入技術(shù)(PΙ3),等離被視為一個(gè)基于低壓射頻輝光放電混合注入/擴(kuò)散技術(shù),中等大小的不銹鋼容器。López-Callejas R.[24]等人利用AISI304 進(jìn)行滲氮,470℃下經(jīng)過 5 小時(shí)處理,滲層厚度為0℃下針對(duì) AISI304 采用等離子體浸沒離子注入方法滲氮。
體相:具有高氮濃度和低晶格缺陷數(shù)量的順磁性特別是存在導(dǎo)致磁轉(zhuǎn)換的堆垛層錯(cuò)的鐵磁奧氏體{200}晶面族和表面平行于{111}晶面族的織構(gòu)具密切相關(guān)的。固溶體中的氮使晶格膨脹,并且由均勻的,并不是在{200}晶面族上優(yōu)先固溶氮。被認(rèn)為是由晶粒取向決定的。面心立方結(jié)構(gòu)金屬塑性變形導(dǎo)致{111}晶面族排列平行于表面,這面硬度相當(dāng)高而脆性卻不是很大。堡的 Georges J.[31]發(fā)明了活性屏離子滲氮技術(shù)(PN)。圖 1-3 為活性屏離子滲氮設(shè)備示意圖。在態(tài),離子轟擊金屬屏而不是工件本身。與傳統(tǒng)離的工件,并能消除邊緣效應(yīng)、空心陰極效應(yīng),還
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2792051
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