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熱浸Zn-5%Al鍍層表面硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的研究

發(fā)布時(shí)間:2020-08-08 08:29
【摘要】:熱浸Zn-5%Al合金鍍層比純鋅鍍層擁有更多優(yōu)良的性能,如加工性能、外觀質(zhì)量和耐蝕性能。在普通大氣環(huán)境下,熱浸Zn-5%Al合金鍍層的耐蝕性是純鋅鍍層的2~3倍,因此其應(yīng)用領(lǐng)域也越來越廣。但是,Zn-5%Al合金鍍層在運(yùn)輸和存放過程仍舊具有和鍍鋅層一樣的反應(yīng)特性,從而易發(fā)生腐蝕。為了進(jìn)一步提高鍍層的耐蝕性,通常會(huì)對(duì)鍍層表面進(jìn)行鈍化處理。目前,鋅及鋅合金、鋁合金和鎂合金表面的主要處理方式為鉻酸鹽鈍化處理。但是由于Cr(Ⅵ)對(duì)環(huán)境及人體都有危害,國(guó)內(nèi)外嚴(yán)格限制了鉻酸鹽的使用。硅酸鹽資源豐富且價(jià)格便宜,溶液穩(wěn)定、環(huán)保,純鋅鍍層、鋁合金以及鎂合金表面的硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜已有了大量研究,但在熱浸Zn-5%Al合金鍍層表面硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的研究少見報(bào)道。本文在熱浸Zn-5%Al鍍層上制備了硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜,通過正交試驗(yàn)分析了鈍化時(shí)間、鈍化溫度、溶液模數(shù)(SiO_2:Na_2O摩爾比)和烘干溫度對(duì)膜層耐蝕性的影響,通過單因素分析確定了硅酸鹽成膜最佳工藝;采用掃描電子顯微鏡(SEM)和能譜儀(EDS)、傅里葉變換紅外吸收光譜(FT-IR)、X射線光電子能譜(XPS)研究了經(jīng)不同模數(shù)(SiO_2:Na_2O=2.0,3.0,3.5,4.0,4.5)硅酸鈉溶液處理的熱浸Zn-5%Al鍍層表面硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的形貌及組成結(jié)構(gòu);采用中性鹽霧試驗(yàn)(NSS)、塔菲爾極化曲線(Tafel)和電化學(xué)交流阻抗(EIS)對(duì)不同模數(shù)下的硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜耐蝕性進(jìn)行研究;選擇成膜最佳的硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜,通過將其在5wt.%NaCl溶液中浸泡不同時(shí)間來研究其腐蝕過程,探討其耐蝕機(jī)理。正交試驗(yàn)結(jié)果表明,溶液模數(shù)和烘干溫度對(duì)成膜影響最大,各因素對(duì)硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜耐蝕性影響大小依次為:溶液模數(shù)(29)烘干溫度(29)鈍化溫度(29)鈍化時(shí)間;單因素分析結(jié)果表明,熱浸Zn-5%Al鍍層上硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的最優(yōu)工藝條件為:溶液模數(shù)4.0,鈍化時(shí)間60 s,鈍化溫度80℃,烘干溫度125℃。SEM結(jié)果表明,隨著溶液模數(shù)地增加,膜層表面趨于均勻,膜層厚度也隨之減小。模數(shù)為2.0時(shí),膜層表面不均勻,開裂較多,且膜層堆積較厚;模數(shù)3.0時(shí),膜層表面整體平整,但局部有少量凸起,模數(shù)為3.5、4.0和4.5時(shí)獲得的膜層表面形貌較為相似,表面均完整且均勻,成膜較薄;XPS和FT-IR結(jié)果表明,Zn-5%Al上的硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜主要由硅酸鋅、鋁硅酸鹽和二氧化硅、鋁氧化物/氫氧化物以及鋅氧化物/氫氧化物組成。鹽霧試驗(yàn)結(jié)果表明,熱浸鍍Zn-5%Al鍍層經(jīng)硅酸鹽鈍化后,膜層耐鹽霧腐蝕性能有較大的提升,在模數(shù)為2.0~4.0時(shí),膜層耐鹽霧腐蝕性隨著模數(shù)的增加而提高,模數(shù)為4.0時(shí),膜層耐鹽霧腐蝕性最佳,之后隨著模數(shù)的增加耐蝕性下降;塔菲爾極化結(jié)果表明,溶液模數(shù)為4.0時(shí)獲得的硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜抑制陰極腐蝕過程和陽(yáng)極腐蝕過程的效果最佳,此時(shí)膜層的極化電阻R_p高達(dá)134.17 kΩ·cm~2,腐蝕電流密度i_(corr)也達(dá)到最小值0.251μA·cm~(-2);電化學(xué)阻抗結(jié)果表明,熱浸Zn-5%Al鍍層經(jīng)鈍化后耐蝕性有較大的提升,模數(shù)為2.0時(shí)膜層耐蝕性最差,隨著模數(shù)增加,膜層耐蝕性也逐漸提高,在模數(shù)為4.0時(shí)膜層阻抗達(dá)到206.19 kΩ,耐蝕性最佳,繼續(xù)增加溶液模數(shù),膜層耐蝕性開始下降。通過對(duì)轉(zhuǎn)化膜的腐蝕過程研究,熱浸Zn-5%Al鍍層表面硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜在5 wt.%NaCl溶液中的腐蝕主要分為三個(gè)階段:腐蝕前期,腐蝕中期,腐蝕后期。腐蝕前期,膜層表面平整,能有效隔絕腐蝕介質(zhì)的侵蝕;腐蝕中期,膜層阻抗急劇下降,電化學(xué)阻抗對(duì)膜層耐蝕性起主導(dǎo)作用;腐蝕后期,膜層電化學(xué)阻抗譜中出現(xiàn)Warburg擴(kuò)散阻抗,且對(duì)膜層耐蝕性起主導(dǎo)作用,基體發(fā)生腐蝕,膜層表面出現(xiàn)腐蝕產(chǎn)物;浸泡至24 h,膜層失去對(duì)基體的保護(hù)作用,基體表面被腐蝕產(chǎn)物覆蓋。
【學(xué)位授予單位】:華南理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TG174.4
【圖文】:

二元合金相圖,二元合金相圖


圖 1-1 Zn-Al 二元合金相圖Fig.1-1 Diagram of Zn-Al binary alloyalfan(Zn-5%Al-0.1%RE)鍍層紀(jì) 80 年代,國(guó)際鉛鋅組織在 Zn-5%Al 合金的基礎(chǔ)上開發(fā)了,并將其命名為 Galfan,其典型成分為 Zn-5%Al-0.1%RE。其使 Zn-5%Al 鍍層各方面性能進(jìn)一步提高[21]:(1)提高鋅浴流潤(rùn)濕角和表面張力,明顯改善鍍層的光亮性;(2)細(xì)化、均勻(3)大幅提高鍍層致密性,有效地阻擋了外界水、雜質(zhì)和空氣fan 的過渡層為一層很薄的 Fe-Al-Zn 三元金屬化合物,能有效的形成,外層為 α-Al 和 β-Zn 相互交替的層片狀共晶組織[22],密的 Al2O3氧化物保護(hù)膜[23],提高鍍層的鈍化性能[24];此外,熱

連接類型,硅酸鈉,溶液,負(fù)離子


[71]。其中,i表示某個(gè)Si原子通過O原子與周圍Si原子連接形成Si-O-Si鍵的個(gè)數(shù),如圖1-2,j表示負(fù)離子中形成這種結(jié)構(gòu)的Si原子的個(gè)數(shù),R表示負(fù)離子團(tuán)中形成的環(huán)狀結(jié)構(gòu),k表示環(huán)狀結(jié)構(gòu)中Si原子的個(gè)數(shù)。圖1-2 硅酸鈉溶液中幾種典型的Si-O連接類型[71]Fig.1-2 Several typical Si-O linkages in sodium silicate solution[71]Staffan[72]對(duì)硅酸鹽溶液的溶液結(jié)構(gòu)及溶液中離子團(tuán)之間的化學(xué)行為進(jìn)行了探討。文中提到,29Si NMR技術(shù)的發(fā)展為硅酸鹽溶液中負(fù)離子團(tuán)的形成提供了一個(gè)更清晰,但也更為復(fù)雜的圖景,人們可以從核磁共振譜中獲得更直接的信息。29Si NMR譜具有以下兩個(gè)特征:(1)可以觀察到來自不同結(jié)構(gòu)中的SiO4基團(tuán)的大

連接類型,硅酸鈉,模數(shù),溶液


4,而模數(shù)3.50與4.00溶液中離子的分布與3.00較為接近,如圖1-3。圖1-3 不同模數(shù)硅酸鈉溶液中Si-O連接類型分布[74]Fig.1-3 Relative percentages of Si-O linkage types for various SiO2:Na2O molar ratios[74]1.3.3 硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜成膜機(jī)理和耐蝕機(jī)理的研究由于硅酸鹽溶液的結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜,因此硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的成膜過程及反應(yīng)機(jī)理也十分復(fù)雜。目前對(duì)于硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的成膜機(jī)理存在兩種說法,一種是在純鋅鍍層上的成膜機(jī)理,另一種是在鋁合金上的成膜機(jī)理。研究表明[57],當(dāng) SiO2:Na2O = 3.22 時(shí),溶液中的陰離子 80%為 Q3和 Q4,20%為 Q0。溶液中 SiO2和氧化硅膠體粒子存在反應(yīng)平衡:SiO2+ 2H2O = Si(OH)4(1-1)而單體硅酸根離子(Q0結(jié)構(gòu))發(fā)生縮聚反應(yīng)的條件與溶液濃度、反應(yīng)溫度和溶液pH 有關(guān),其縮聚反應(yīng)根據(jù)式(1-2)發(fā)生

【參考文獻(xiàn)】

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1 解凱;賀志榮;劉繼拓;解亞丹;姚凱;;Ti含量對(duì)熱浸鍍Zn-Al-Ti合金鍍層形貌和性能的影響[J];材料熱處理學(xué)報(bào);2014年S2期

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3 賀志榮;何應(yīng);劉繼拓;解凱;;Al和RE對(duì)Zn-Al合金鍍層組織和耐蝕性的影響[J];中國(guó)有色金屬學(xué)報(bào);2014年08期

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2 袁美蓉;熱浸鍍鋅層表面硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的研究[D];華南理工大學(xué);2011年



本文編號(hào):2785317

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