熱浸Zn-5%Al鍍層表面硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的研究
【學(xué)位授予單位】:華南理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TG174.4
【圖文】:
圖 1-1 Zn-Al 二元合金相圖Fig.1-1 Diagram of Zn-Al binary alloyalfan(Zn-5%Al-0.1%RE)鍍層紀(jì) 80 年代,國(guó)際鉛鋅組織在 Zn-5%Al 合金的基礎(chǔ)上開發(fā)了,并將其命名為 Galfan,其典型成分為 Zn-5%Al-0.1%RE。其使 Zn-5%Al 鍍層各方面性能進(jìn)一步提高[21]:(1)提高鋅浴流潤(rùn)濕角和表面張力,明顯改善鍍層的光亮性;(2)細(xì)化、均勻(3)大幅提高鍍層致密性,有效地阻擋了外界水、雜質(zhì)和空氣fan 的過渡層為一層很薄的 Fe-Al-Zn 三元金屬化合物,能有效的形成,外層為 α-Al 和 β-Zn 相互交替的層片狀共晶組織[22],密的 Al2O3氧化物保護(hù)膜[23],提高鍍層的鈍化性能[24];此外,熱
[71]。其中,i表示某個(gè)Si原子通過O原子與周圍Si原子連接形成Si-O-Si鍵的個(gè)數(shù),如圖1-2,j表示負(fù)離子中形成這種結(jié)構(gòu)的Si原子的個(gè)數(shù),R表示負(fù)離子團(tuán)中形成的環(huán)狀結(jié)構(gòu),k表示環(huán)狀結(jié)構(gòu)中Si原子的個(gè)數(shù)。圖1-2 硅酸鈉溶液中幾種典型的Si-O連接類型[71]Fig.1-2 Several typical Si-O linkages in sodium silicate solution[71]Staffan[72]對(duì)硅酸鹽溶液的溶液結(jié)構(gòu)及溶液中離子團(tuán)之間的化學(xué)行為進(jìn)行了探討。文中提到,29Si NMR技術(shù)的發(fā)展為硅酸鹽溶液中負(fù)離子團(tuán)的形成提供了一個(gè)更清晰,但也更為復(fù)雜的圖景,人們可以從核磁共振譜中獲得更直接的信息。29Si NMR譜具有以下兩個(gè)特征:(1)可以觀察到來自不同結(jié)構(gòu)中的SiO4基團(tuán)的大
4,而模數(shù)3.50與4.00溶液中離子的分布與3.00較為接近,如圖1-3。圖1-3 不同模數(shù)硅酸鈉溶液中Si-O連接類型分布[74]Fig.1-3 Relative percentages of Si-O linkage types for various SiO2:Na2O molar ratios[74]1.3.3 硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜成膜機(jī)理和耐蝕機(jī)理的研究由于硅酸鹽溶液的結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜,因此硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的成膜過程及反應(yīng)機(jī)理也十分復(fù)雜。目前對(duì)于硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的成膜機(jī)理存在兩種說法,一種是在純鋅鍍層上的成膜機(jī)理,另一種是在鋁合金上的成膜機(jī)理。研究表明[57],當(dāng) SiO2:Na2O = 3.22 時(shí),溶液中的陰離子 80%為 Q3和 Q4,20%為 Q0。溶液中 SiO2和氧化硅膠體粒子存在反應(yīng)平衡:SiO2+ 2H2O = Si(OH)4(1-1)而單體硅酸根離子(Q0結(jié)構(gòu))發(fā)生縮聚反應(yīng)的條件與溶液濃度、反應(yīng)溫度和溶液pH 有關(guān),其縮聚反應(yīng)根據(jù)式(1-2)發(fā)生
【參考文獻(xiàn)】
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2 袁美蓉;熱浸鍍鋅層表面硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜的研究[D];華南理工大學(xué);2011年
本文編號(hào):2785317
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