多孔陽極氧化鋁自潤滑薄膜制備及其摩擦性能研究
【圖文】:
西南交通大學(xué)碩士學(xué)位論文 第(1)場助氧化模型[18]。電場支持下的溶解模型 O’Sullivan 和 Wood 等提認為鋁的陽極氧化過程是兩個過程的平衡:即氧化鋁在金屬/氧化物界過程和氧化鋁在氧化物/電解液界面的溶解過程相平衡。如圖 1-1 所示氧化初期,阻擋層厚度變大,當達到一定的臨界值時,孔底部電流提加使得溶解過程更強烈。同時,孔底部的快速溶解又導(dǎo)致電場進一步場和溶解作用下,,Al3+向外遷移、O2-和 OH-向內(nèi)遷移,同時,新的勢屬/氧化物界面不斷形成。當勢壘層的溶解和生長達到動態(tài)平衡,氧化定生長。
圖 1-1 場助氧化模型示意圖膨脹應(yīng)力模型(Volume expansion stress mod]提出。如圖 1-2,在穩(wěn)態(tài)氧化過程中,Al 的升高,其體積密度由 2.7 g/cm3轉(zhuǎn)變?yōu)?4.0 g/c械應(yīng)力作用。機械應(yīng)力作用使得整個氧化膜結(jié)各個孔就按照六角密排方式排列。這一模型孔生長過程中的作用,但是此模型忽略了電場
【學(xué)位授予單位】:西南交通大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TG174.451
【參考文獻】
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本文編號:2611379
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