【摘要】：研究電解液、電流密度和溫度等陽極化條件對在Al 5745和Al 1050A基質(zhì)上形成的氧化膜層摩擦因數(shù)和維氏硬度的影響。采用DELTALAB HVS-1000維氏硬度計和旋轉(zhuǎn)銷盤摩擦試驗機(jī)測量樣品的硬度和摩擦性能。結(jié)果表明:當(dāng)草酸濃度為10 g/L、電流密度為3 A/dm2及溫度為5°C時,樣品獲得最高的維氏硬度(HV 400)和最低的摩擦因數(shù)(0.4)。采用輝光放電發(fā)生光譜法檢測在Al 5754基質(zhì)上形成的陽極氧化膜層上的氧化鎂含量。氧化鎂對膜層的力學(xué)性能產(chǎn)生一系列的負(fù)作用。最后,采用SEM、EDS和AFM測定摩擦試驗前后陽極氧化膜的摩擦磨損性能。結(jié)果表明,磨損機(jī)理與材料的初始形貌、膜層的化學(xué)成分(C、S和Mg)、孔隙率和內(nèi)應(yīng)力等諸多因素有關(guān)。

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前1條

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本文編號：2582288