【摘要】：利用強流脈沖電子束(High current pulsed electron beam,HCPEB)技術(shù)對鎳基高溫合金GH4169進(jìn)行表面處理,利用X射線衍射儀(X-ray diffraction,XRD)、掃描電子顯微鏡(Scanning electron microscope,SEM)和透射電子顯微鏡(Transmission electron microscopy,TEM)對HCPEB誘發(fā)的微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)的表征,并考察HCPEB輻照處理后樣品表面的腐蝕性能。試驗結(jié)果表明,HCPEB輻照后GH4169合金表面發(fā)生熔化并形成熔坑,熔坑密度隨輻照次數(shù)的增加而降低,尺寸較大的第二相顆粒等可隨著熔坑的噴發(fā)而清除,進(jìn)而實現(xiàn)表面凈化。HCPEB輻照后GH4169合金表面形成3~5μm厚的重熔層,重熔層內(nèi)部以尺寸在100 nm左右的納米晶為主,HCPEB輻照還可在表層誘發(fā)強烈的塑性變形,形成高密度的位錯及變形孿晶等變形結(jié)構(gòu)。HCPEB輻照顯著地改善了GH4169合金的耐蝕性能,腐蝕性能的改善主要歸因于表面凈化效應(yīng)以及表層納米重熔層和高密度的晶體缺陷的形成,這些微觀結(jié)構(gòu)促進(jìn)了表層鈍化膜的形成,起到保護(hù)基體的作用。
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【作者單位】： 江蘇大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金委員會-中國民用航空局聯(lián)合基金資助項目(U1233111)
【分類號】：TG661;TG132.3

【參考文獻(xiàn)】

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【共引文獻(xiàn)】

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本文編號：2490913