【摘要】：在熱鍍鋅鋼板表面制備了硅烷釩鋯復(fù)合鈍化膜。用X射線光電子能譜(XPS)、射頻輝光放電發(fā)射光譜(rf-GD-OES)和傅里葉變換衰減全反射紅外光譜(ATR-FTIR)表征了鈍化膜的組成結(jié)構(gòu),分析了硅烷釩鋯復(fù)合鈍化膜的成膜機(jī)理。結(jié)果表明:硅烷之間互聯(lián)構(gòu)成了硅烷釩鋯復(fù)合鈍化膜的主成膜成分,無機(jī)緩蝕劑均勻分布在膜層中。鈍化膜表面Si2p的XPS窄幅掃描譜100.7eV處的擬合峰和紅外光譜在波數(shù)1 100cm-1 Si—O吸收峰變寬加強(qiáng),表明硅烷以Si—O—Zn鍵的形式化學(xué)吸附在鋅的表面,硅烷分子之間通過Si—O—Si鍵相互交聯(lián);紅外光譜中1 650和1 560cm-1的兩個(gè)酰胺特征峰,結(jié)合910cm-1的環(huán)氧特征峰的消失,表明γ-GPT的環(huán)氧基團(tuán)在氨基活性氫的誘導(dǎo)下開環(huán)和γ-APT的氨基之間發(fā)生聚合反應(yīng)形成交聯(lián)的空間網(wǎng)狀結(jié)構(gòu);rf-GD-OES分析發(fā)現(xiàn)鈍化膜0.3μm處存在一層富氧層,鈍化反應(yīng)生成的ZrF4,ZrO2和釩鹽等無機(jī)物均勻分布在鈍化膜中。分析膜層組成結(jié)構(gòu)和成膜前后的ATR-FTIR光譜,研究了成膜過程中發(fā)生的物理過程和化學(xué)變化,提出了硅烷釩鋯復(fù)合鈍化膜的成膜機(jī)理。
[Abstract]:Silane-vanadium-zirconium composite passivation film was prepared on the surface of hot-dip galvanized steel plate. The composition and structure of the passive films were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS),) RF glow discharge emission spectroscopy (rf-GD-OES) and Fourier transform attenuated total reflection infrared spectroscopy (ATR-FTIR). The formation mechanism of silane-vanadium-zirconium composite passivation film was analyzed. The results show that the main composition of silane vanadium zirconium composite passivation film is formed by the interconnection of silane and zirconium, and the inorganic corrosion inhibitor is uniformly distributed in the film. The fitting peak at the narrow XPS scanning spectrum of Si2p on the surface of the passive film and the infrared spectrum at the wavelength number of 1 100cm-1 Si-O broadened, indicating that silane was chemisorbed on the surface of zinc in the form of Si-O-Zn bond. Silane molecules are cross-linked by Si-O-Si bonds. The two characteristic peaks of amide of 1 650 and 1 560cm-1 in IR spectra, and the disappearance of epoxy characteristic peaks of 910cm-1. The results show that the ring opening of 緯-GPT and the polymerization of amino groups of 緯-APT take place under the inducement of amino active hydrogen to form a cross-linked spatial reticular structure. Rf-GD-OES analysis showed that there was an oxygen-rich layer at 0.3 渭 m in the passivation film, and the inorganic substances such as ZrF4,ZrO2 and vanadium salt were uniformly distributed in the passivation film. The composition and structure of the film and the ATR-FTIR spectra before and after the film formation were analyzed. The physical and chemical changes of the film formation process were studied. The film forming mechanism of the silane vanadium zirconium composite passivation film was put forward.
【作者單位】： 沈陽理工大學(xué)環(huán)境與化學(xué)工程學(xué)院;東北大學(xué)材料各向異性與織構(gòu)工程教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：國(guó)家高技術(shù)發(fā)展計(jì)劃(863)項(xiàng)目(2009AA03Z529)資助
【分類號(hào)】：TG174.4

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本文編號(hào)：2464203