發(fā)布時間：2019-02-26 16:10

【摘要】：目的對比三氮唑(TA)和苯并三氮唑(BTA)兩種緩蝕劑的緩蝕性能,明確兩種緩蝕劑在銅表面的吸附類型,并從實驗和分子模擬角度解釋其吸附機理。方法采用動電位極化曲線法測試兩種緩蝕劑的緩蝕效率,采用吸附等溫擬合方法確定兩種緩蝕劑的吸附類型,采用分子模擬中的量子化學計算方法計算兩種緩蝕劑在銅表面的吸附能、形變電荷密度和分波態(tài)密度等參數(shù),深入揭示其吸附機理。結果在不同濃度下,BTA的緩蝕效率均大于TA。兩種緩蝕劑濃度與覆蓋度的關系符合Langmuir吸附模型,其吸附自由能介于-35~-37 k J/mol之間。BTA在銅表面的吸附能絕對值(頂位為4.41 e V,橋位為4.36e V)要大于TA的吸附能絕對值(3.28 e V),吸附過程發(fā)生了明顯的電荷轉移,電子云處于兩個成鍵原子之間,且N原子s,p軌道與Cu原子d軌道發(fā)生重疊。中性和質子化形式的兩種緩蝕劑分子均可在銅表面發(fā)生平行吸附。結論由于BTA在銅表面的吸附能力強于TA,因此BTA的緩蝕性能優(yōu)于TA。兩種緩蝕劑在銅表面既能發(fā)生化學吸附,又能發(fā)生物理吸附�；瘜W吸附是由于N原子的s,p軌道與Cu原子d軌道相互作用所致,物理吸附是由于中性分子的范德華相互作用和質子化分子的靜電相互作用所致。
[Abstract]:Aim to compare the corrosion inhibition properties of triazole (TA) and benzotriazole (BTA), and to clarify the adsorption types of the two inhibitors on copper surface, and to explain the adsorption mechanism of the two inhibitors from the point of view of experiment and molecular simulation. Methods the inhibition efficiency of the two inhibitors was measured by potentiodynamic polarization curve method, and the adsorption types of the two inhibitors were determined by the adsorption isotherm fitting method. The adsorption energy, deformation charge density and partial wave state density of the two inhibitors on copper surface were calculated by quantum chemistry calculation method in molecular simulation, and the adsorption mechanism was revealed. Results the corrosion inhibition efficiency of BTA was higher than that of TA. at different concentrations. The relationship between the concentration of the two inhibitors and the coverage is in accordance with the Langmuir adsorption model. The free energy of the two inhibitors is between-35 and 37 k J/mol, and the absolute value of the adsorption energy of BTA on the surface of copper is 4.41 EV, The bridge site is 4.36eV), which is greater than the absolute value of the adsorption energy of TA (3.28 e V),). The electron cloud is located between two bonding atoms, and the N atom s, p orbital overlap with the d orbital of Cu atom. Both neutral and protonated inhibitor molecules can be adsorbed parallel to each other on the copper surface. Conclusion because the adsorption ability of BTA on copper surface is stronger than that of TA, the corrosion inhibition performance of BTA is better than that of TA.. Both chemisorption and physical adsorption of the two inhibitors can occur on the surface of copper. Chemisorption is due to the interaction between p-orbitals and d-orbitals of Cu atoms. The physical adsorption is due to the van der Waals interaction of neutral molecules and the electrostatic interaction of protonated molecules.
【作者單位】： 中海油常州涂料化工研究院有限公司;中國石油大學(華東)理學院;
【基金】：山東省自然科學基金(ZR2012BM010,ZR2014EL003) 中央高�；究蒲袠I(yè)務費專項資金(15CX02066A)~~
【分類號】：TG174.42

【參考文獻】

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【共引文獻】

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本文編號：2430932