發(fā)布時(shí)間：2018-12-19 18:59

【摘要】：研究硅化物(Nb5Si3相)析出對(duì)高Nb-TiAl合金組織及室溫拉伸性能的影響.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,硅化物脫溶析出溫度在1000~1200℃之間,析出物位于片層團(tuán)晶界處、b(B2)相偏析處以及片層之間.添加Si元素后,合金室溫拉伸性能有所增加.因?yàn)镹b5Si3相的形成使得b(B2)相穩(wěn)定元素Nb含量下降,導(dǎo)致脆性相b(B2)相體積減少.但是,含Si高Nb-TiAl合金經(jīng)過熱處理后,室溫拉伸性能隨熱處理溫度提高而逐步降低.因?yàn)檠仄瑢游龀龅墓杌飼?huì)導(dǎo)致裂紋沿片層產(chǎn)生與增殖,而且應(yīng)力會(huì)導(dǎo)致硅化物進(jìn)一步析出,加速裂紋擴(kuò)展.而且,Si的加入會(huì)導(dǎo)致γ相區(qū)擴(kuò)大,在1280~1300℃之間形成γ單相區(qū).硅化物析出在片層邊界處,會(huì)導(dǎo)致塊狀γ+b(B2)相組織,脆化晶界;而硅化物析出在片層內(nèi)部會(huì)導(dǎo)致二次γ板條形成,割裂了初始片層組織.
[Abstract]:The effect of silicide (Nb5Si3 phase) precipitation on microstructure and room temperature tensile properties of high Nb-TiAl alloy was studied. The experimental results show that the desolvent precipitation temperature of the silicide is between 1000 鈩，

本文編號(hào)：2387317