【摘要】：為研究AZ91D表面微弧氧化過程中的放電現(xiàn)象及膜層特性,采用高速攝像機記錄微弧氧化試樣表面在Na2Si O3-Na OH電解液體系下放電過程的瞬間圖像。用掃描電子顯微鏡(SEM)對微弧氧化膜層截面形貌和表面形貌進行觀察,利用X射線衍射儀(XRD)分析膜層的相組成。結(jié)果表明:AZ91D合金在微弧氧化穩(wěn)定階段,放電過程呈周期性變化規(guī)律。AZ91D合金微弧氧化膜層由致密層與疏松層構(gòu)成,靠近基體一側(cè)為致密層,膜層外側(cè)為疏松層,在疏松層表面存在微孔和裂紋缺陷,膜層最大厚度約為169μm。陶瓷膜層主要由Mg O和Mg2Si O4相組成,且以Mg O相為主。
[Abstract]:In order to study the discharge phenomena and film characteristics of AZ91D surface during micro-arc oxidation, a high-speed video camera was used to record the transient images of the surface discharge process in Na _ 2SiO _ 3-NaOH electrolyte system. The cross-section and surface morphology of the micro-arc oxide film were observed by scanning electron microscope (SEM). The phase composition of the film was analyzed by X-ray diffraction (XRD). The results show that the discharge process of Wau AZ91D alloy changes periodically in the stable phase of micro-arc oxidation. The micro-arc oxide film of AZ91D alloy is composed of dense layer and loose layer, which is close to the substrate side and loose layer on the outer side of the film. There are micropores and crack defects on the surface of the porous layer, and the maximum thickness of the film is about 169 渭 m. The ceramic coating is mainly composed of MgO and Mg2SiO4 phases, and MgO phase is the main phase.
【作者單位】： 內(nèi)蒙古工業(yè)大學;
【分類號】：TG174.4

【參考文獻】

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7 朱e，

本文編號：2137472