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TC4鈦合金熔鹽電解法滲硼的研究

發(fā)布時間:2018-06-25 14:17

  本文選題:TC4 + 熔鹽電解; 參考:《西安建筑科技大學》2015年碩士論文


【摘要】:TC4(Ti-6Al-4V)鈦合金具備密度小、比強度高、耐蝕性及生物相容性好等一系列優(yōu)點,在鈦合金里面用量最大,但是其表面硬度低、耐磨性較差,因此有必要對TC4鈦合金進行表面強化處理以提高其表面硬度。金屬的熔鹽電解法滲硼具有成本低、操作簡單、滲硼效果明顯等優(yōu)點,本論文采用熔鹽電解法對TC4鈦合金表面滲硼。實驗用TC4鈦合金片作陰極,石墨坩堝作陽極,選用無水硼砂和無水碳酸鈉的混合鹽作電解質,對不同組分的混合熔鹽進行示差掃描熱量(DSC)-熱重(TG)分析,以確定合適的熔鹽配比。分別在不同電流密度、通電時間及溫度下對TC4鈦合金表面進行滲硼處理,利用X射線衍射儀(XRD)對滲層表面及熔鹽進行物相分析,利用掃描電鏡(SEM)和能譜儀(EDS)來分析滲層斷面的形貌和元素;利用顯微硬度儀測量滲層表面硬度。研究了電流密度、通電時間和溫度對滲層生長情況及形貌的影響,并對熔鹽電解滲硼的反應機理進行了探討。對不同配比的混合熔鹽進行DSC-TG分析,討論了混合鹽加熱過程中的物理化學變化,并確定出添加20%Na2CO3的混合鹽適合滲硼;通過分析不同條件下獲得的滲硼組織的微觀形貌及物相組成發(fā)現(xiàn)溫度為900℃、通電時間為110 min、電流密度為3500 A/m2時滲硼的效果較好,所得滲層外層為致密層,主要成分是TiB2,內(nèi)層為結構較疏松的晶須組織,主要成分是TiB。滲層致密層厚度約為14.8μm,表面硬度達到了HV712,是TC4鈦合金原始硬度(HV290左右)的2.5倍,有效提高了鈦合金的表面硬度;此外,分別討論了電流密度、通電時間、溫度對滲層的厚度及形貌的影響;實驗中發(fā)現(xiàn)某些試樣滲層與基體結合處的少部分位置存在孔隙和微小裂紋,論文中對該問題產(chǎn)生的原因進行了討論。參考熔鹽的物相分析及DSC-TG分析結果,并結合滲硼反應的熱力學計算數(shù)據(jù),探討了滲硼的機理,并歸納總結了滲硼過程的主要反應。
[Abstract]:A series of advantages such as low density , high specific strength , good corrosion resistance and biocompatibility were studied . The effects of current density , current time and temperature on the surface hardness of titanium alloy were studied .
【學位授予單位】:西安建筑科技大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2015
【分類號】:TG166.5

【相似文獻】

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本文編號:2066287

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