本文選題：WF + 鎢��； 參考：《中國有色金屬學(xué)報》2015年06期

【摘要】：以WF6為前驅(qū)體,采用化學(xué)氣相沉積法(CVD)在純銅基體上沉積出鎢涂層。利用光學(xué)顯微鏡(OM)和掃描電鏡(SEM)分析研究鎢制品組織缺陷的形成。結(jié)果表明:反應(yīng)物濃度起伏對化學(xué)氣相沉積鎢的顯微組織具有顯著影響。當(dāng)n(WF6):n(H2)≥1:3時,沉積物為柱狀晶組織;當(dāng)n(WF6):n(H2)1:3時,該沉積層晶粒明顯細(xì)化,顯微組織為細(xì)晶層狀結(jié)構(gòu)。另外,沉積過程中雜質(zhì)形狀也顯著影響沉積層的顯微組織。當(dāng)基體表面存在一維雜質(zhì)時,沉積制品表面產(chǎn)生明顯的凸起,嚴(yán)重影響制品的表面質(zhì)量和顯微組織的均勻性;當(dāng)沉積過程中存在零維雜質(zhì)時,沉積層出現(xiàn)放射狀的組織結(jié)構(gòu)。
[Abstract]:Tungsten coating was deposited on pure copper substrate by chemical vapor deposition (CVD) using WF 6 as precursor. The formation of tungsten defects was studied by means of optical microscope (Om) and scanning electron microscope (SEM). The results show that the fluctuation of reactant concentration has a significant effect on the microstructure of chemical vapor deposition tungsten. The sediment is columnar structure when the ratio of WF6 / H2) 鈮，

本文編號：2029880