本文選題：鎢 + 化學(xué)氣相沉積��； 參考：《中國鎢業(yè)》2015年02期

【摘要】：化學(xué)氣相沉積(Chemial vapor deposition,CVD)是制備高純高致密鎢零件及涂層的重要工藝。通過介紹采用CVD方法制備的純鎢材料的工藝與技術(shù)特點,并從CVD-W材料特性、產(chǎn)品種類,相關(guān)應(yīng)用方向等方面闡述了CVD技術(shù)在鎢材料制造中的發(fā)展情況,介紹了CVD-W在國防軍工、核能、醫(yī)療等行業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用,總結(jié)了CVD-W制備技術(shù)和材料的國內(nèi)外現(xiàn)狀,并指出了未來國內(nèi)CVD技術(shù)在鎢及難熔金屬應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)展的總體方向。
[Abstract]:Chemical vapor deposition (CVD) is an important process for preparing high purity and high density tungsten parts and coatings. This paper introduces the process and technical characteristics of pure tungsten materials prepared by CVD method, and expounds the development of CVD technology in the manufacture of tungsten materials from the aspects of CVD-W material characteristics, product types and related application directions, and introduces the application of CVD-W in national defense military industry. This paper summarizes the present situation of CVD-W preparation technology and materials at home and abroad, and points out the general development direction of domestic CVD technology in tungsten and refractory metal application field in the future.
【作者單位】： 廈門虹鷺鎢鉬工業(yè)有限公司;
【基金】：第56批中國博士后科學(xué)基金面上項目二等資助(2014M561867)
【分類號】：TG146.411

【參考文獻】

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本文編號：1859165