本文選題：旋擺驅(qū)動 + 水合拋光�。� 參考：《機械工程學(xué)報》2015年11期

【摘要】：建立了旋擺驅(qū)動方式下水合平面拋光過程中工件的運動學(xué)模型,揭示了拋光盤開孔方式對藍寶石襯底的水合拋光均勻性影響規(guī)律。旋擺驅(qū)動條件下,杉木拋光盤的開孔方式對藍寶石襯底水合拋光加工全局均勻性和局部均勻性具有重要的作用,局部均勻性的階梯狀分布為直線、圓環(huán)和螺旋線開孔方式的共性特征。與直線、圓環(huán)開孔方式相比,在一定的參數(shù)取值條件下,螺旋線開孔方式可更好地實現(xiàn)水合拋光加工的全局均勻性和局部均勻性要求。
[Abstract]:The kinematics model of the workpiece in the process of swing-driven underwater plane polishing is established, and the influence of the opening mode of the disc on the homogeneity of the hydration polishing of sapphire substrates is revealed. Under the condition of rotary pendulum drive, the opening mode of Chinese fir polishing disc plays an important role in the global uniformity and local uniformity of sapphire substrate hydration polishing, and the local homogeneity is distributed in a straight line. The common features of the opening way of the ring and helix. Compared with the straight line and ring opening mode, the helical hole opening mode can better meet the requirements of global uniformity and local uniformity in hydration polishing under certain parameter values.
【作者單位】： 浙江工業(yè)大學(xué)特種裝備制造與先進加工技術(shù)教育部重點實驗室;
【基金】：國家科技支撐計劃(2011BAK15B07) 國家自然科學(xué)基金(51375457) 浙江省科技計劃(2013C31024) 浙江省自然科學(xué)基金杰出青年基金(R1111149)資助項目
【分類號】：TG580.692

【參考文獻】

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【共引文獻】

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【二級參考文獻】

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本文編號：1776652