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新型低Cr鎳基合金GH3535高溫氧化行為

發(fā)布時間:2018-04-18 11:06

  本文選題:GH合金 + 高溫氧化 ; 參考:《稀有金屬》2015年05期


【摘要】:采用靜態(tài)增重法,研究了GH3535合金在700~980℃溫度范圍內(nèi)空氣中的恒溫氧化行為。利用掃描電鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)和電子探針(EPMA)分析了GH3535合金高溫氧化膜表面與截面形貌、表面氧化膜的相組成以及氧化層中元素分布情況。結(jié)果表明GH3535合金在700℃氧化后表面氧化膜無明顯剝落,氧化動力學曲線遵循立方規(guī)律,氧化膜厚度4μm左右。870和980℃時氧化物出現(xiàn)剝落,870℃下無內(nèi)氧化現(xiàn)象發(fā)生。GH3535合金在3個溫度下的氧化速率分別為0.064,0.073和0.200 g·(m2·h)-1,根據(jù)氧化等級評定,700和870℃時屬于完全抗氧化等級;而980℃時GH3535合金轉(zhuǎn)變?yōu)榭寡趸燃墶H3535合金700℃時氧化膜主要組成是外層Ni O和Ni Fe2O4等復合氧化物,中間層是Cr2O3,Ni Cr2O4,Mo O2和Ni Mn2O4等氧化物;870℃氧化膜分層同700℃一致,但外層Ni O含量降低,內(nèi)層Cr2O3厚度增加;980℃時外層Ni O已剝落掉,露出內(nèi)部Cr2O3等氧化層,并出現(xiàn)了Al2O3內(nèi)氧化層。
[Abstract]:The isothermal oxidation behavior of GH3535 alloy in air at 700 鈩,

本文編號:1768109

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