本文選題：多弧離子鍍 + Ti��； 參考：《表面技術(shù)》2015年11期

【摘要】：目的分析不同負(fù)偏壓下Ti N涂層表面的大顆粒數(shù)量、尺寸和面積以及像素分布,為多弧離子鍍技術(shù)的工業(yè)化應(yīng)用提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)。方法采用多弧離子鍍膜技術(shù),以脈沖負(fù)偏壓為變量,在硬質(zhì)合金表面沉積Ti N涂層。用掃描電子顯微鏡對涂層表面形貌進(jìn)行表征,并利用Image J軟件對表面大顆粒的數(shù)量和尺寸進(jìn)行分析,對像素分布進(jìn)行統(tǒng)計(jì)。結(jié)果隨著負(fù)偏壓的增加,涂層表面大顆粒的數(shù)量先增多,后減少。負(fù)偏壓為100 V時(shí),大顆粒數(shù)量最多,為1364;負(fù)偏壓為300 V時(shí),大顆粒數(shù)量最少,為750。此外隨著負(fù)偏壓的增加,大顆粒所占涂層面積比逐漸減小。未加負(fù)偏壓時(shí),涂層表面大顆粒所占面積比最大,為6.9%,且此時(shí)涂層的力學(xué)性能最差;采用400 V負(fù)偏壓時(shí),涂層表面大顆粒所占面積比最小,為3.3%,且此時(shí)涂層的力學(xué)性能最好。負(fù)偏壓為300 V時(shí),亮、暗像素點(diǎn)的個數(shù)最多,為8302;負(fù)偏壓為400 V時(shí),亮、暗像素點(diǎn)的個數(shù)最少,為4067。結(jié)論當(dāng)占空比為30%,沉積時(shí)間為1 h,負(fù)偏壓為400 V時(shí),獲得的涂層力學(xué)性能最好,顆粒數(shù)量少且尺寸小。
[Abstract]:Aim to analyze the number, size, area and pixel distribution of large particles on the surface of tin coating under different negative bias voltages, so as to provide basic data for the industrial application of multi-arc ion plating technology.Methods Ti N coating was deposited on cemented carbide surface with pulse negative bias voltage as variable by multi-arc ion plating technique.The surface morphology of the coating was characterized by scanning electron microscope (SEM), and the number and size of large particles on the surface were analyzed by Image J software, and the pixel distribution was analyzed.Results with the increase of negative bias voltage, the number of large particles on the coating surface increased first, then decreased.When the negative bias voltage is 100 V, the number of large particles is the most, 1364, and the number of large particles is the least when the negative bias voltage is 300 V, which is 750.In addition, with the increase of negative bias voltage, the coating area ratio of large particles decreases gradually.When the negative bias voltage is not applied, the area ratio of the large particles on the coating surface is the largest, which is 6.9, and the mechanical properties of the coating are the worst at this time, and when the negative bias voltage is 400 V, the area ratio of the large particles on the coating surface is the smallest, which is 3.3, and the mechanical properties of the coating are the best.When the negative bias voltage is 300 V, the maximum number of bright and dark pixels is 8302, and the number of bright and dark pixels is 40677.When the negative bias voltage is 400 V, the number of bright and dark pixels is the least.Conclusion when the duty cycle is 30, the deposition time is 1 h and the negative bias voltage is 400 V, the mechanical properties of the coating are the best, the number of particles is small and the size is small.
【作者單位】： 四川理工學(xué)院材料與化學(xué)工程學(xué)院;
【基金】：四川省教育廳項(xiàng)目(15ZA0232) 四川理工學(xué)院科研培育項(xiàng)目(2014PY10)~~
【分類號】：TG174.444

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前7條

1 魏德超;魏曉偉;王建;陳朝英;;多弧離子鍍Al靶弧流對活塞環(huán)AlCrN涂層性能的影響[J];表面技術(shù);2011年04期

2 袁琳;高原;張維;王成磊;馬志康;蔡航偉;;負(fù)偏壓對多弧離子鍍TiN薄膜的影響[J];表面技術(shù);2012年01期

3 田穎萍;范洪遠(yuǎn);成靖文;;氮?dú)辶髁勘葘Υ趴貫R射TiN薄膜生長織構(gòu)的影響[J];表面技術(shù);2012年03期

4 魏永強(qiáng);張艷霞;文振華;蔣志強(qiáng);馮憲章;;脈沖偏壓占空比對TiN/TiAlN多層薄膜微觀結(jié)構(gòu)和硬度的影響[J];表面技術(shù);2014年01期

5 魏永強(qiáng);魏永輝;蔣志強(qiáng);田修波;;放置方向和沉積時(shí)間對Ti大顆粒分布狀態(tài)的影響[J];表面技術(shù);2014年05期

6 李忠厚;宮學(xué)博;郭騰騰;馬芹芹;楊迪;;基片偏壓改變對鎂合金Ti/TiN膜質(zhì)量的影響[J];表面技術(shù);2015年01期

7 Zhenyu Wang;Dong Zhang;Peiling Ke;Xincai Liu;Aiying Wang;;Influence of Substrate Negative Bias on Structure and Properties of TiN Coatings Prepared by Hybrid HIPIMS Method[J];Journal of Materials Science & Technology;2015年01期

【共引文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 熊曉晨;燕怒;韓曉琪;;軸承鋼磁控濺射TiN涂層工藝參數(shù)對其性能的影響[J];表面技術(shù);2014年01期

2 張慧橋;黃曉波;田偉紅;郭楊陽;李娟;范愛蘭;唐賓;;Ti6Al4V表面Ti-Cu-N納米薄膜濺射沉積及其抗菌性能研究[J];表面技術(shù);2014年04期

3 華希俊;劉凱;周萬;符永宏;王蓉;孫建國;;45~#鋼表面激光織構(gòu)淬火減摩抗磨復(fù)合處理技術(shù)研究[J];表面技術(shù);2014年04期

4 張焱;高原;吳煒欽;;多弧離子鍍CrN薄膜的耐腐蝕性能[J];材料保護(hù);2014年05期

5 杜軍;孟凡軍;臧艷;郭蕾;;磁控濺射沉積硬韌ZrAlN薄膜及薄膜力學(xué)性能[J];表面技術(shù);2014年05期

6 魏永強(qiáng);魏永輝;蔣志強(qiáng);田修波;;放置方向和沉積時(shí)間對Ti大顆粒分布狀態(tài)的影響[J];表面技術(shù);2014年05期

7 劉成松;秦林;李翠玲;尹研;賈亞斌;郭麗麗;;304不銹鋼表面Mo合金化改性層組織結(jié)構(gòu)及耐磨性研究[J];表面技術(shù);2014年05期

8 邵天敏;耿哲;;圖形化固體薄膜技術(shù)及其摩擦學(xué)性能的研究進(jìn)展[J];中國表面工程;2015年02期

9 朱軍亮;王更柱;解志文;陳添;宋曉航;高旭;于曉光;宋華;;Ti-Al-N涂層的組織結(jié)構(gòu)與摩擦學(xué)性能[J];表面技術(shù);2015年04期

10 洪波;潘應(yīng)君;張恒;張揚(yáng);;鉬合金磁控濺射鍍鎳薄膜工藝及后續(xù)熱處理[J];表面技術(shù);2015年09期

相關(guān)會議論文 前1條

1 朱元義;朱常鋒;李力;朱元術(shù);;采用改進(jìn)型多弧離子鍍膜設(shè)備鍍制裝飾膜層的產(chǎn)業(yè)化研究[A];第九屆全國轉(zhuǎn)化膜及表面精飾學(xué)術(shù)年會論文集[C];2012年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前4條

1 魏德超;Al含量對大功率發(fā)動機(jī)活塞環(huán)AlCrN涂層性能的影響[D];西華大學(xué);2012年

2 劉成松;304不銹鋼表面等離子Mo基合金化擴(kuò)散行為及摩擦磨損性能的研究[D];太原理工大學(xué);2014年

3 王曉陽;納米晶硒化鉛薄膜的制備及表征研究[D];北京化工大學(xué);2014年

4 楊超;表面織構(gòu)對刀具切削性能及前刀面摩擦特性的影響[D];合肥工業(yè)大學(xué);2015年

【二級參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 瞿全炎;曾德長;史新偉;劉正義;;用彎曲磁過濾提高弧離子鍍TiN薄膜質(zhì)量[J];兵器材料科學(xué)與工程;2008年04期

2 莫繼良;朱e，

本文編號：1739154