本文選題：射頻磁控濺射　切入點：NiCr薄膜　出處：《材料導報》2015年S2期

【摘要】：采用射頻磁控濺射技術(shù)在不銹鋼基底上制備NiCr金屬薄膜,研究不同的氬氣壓強對樣品形貌和光學、附著力性能的影響。結(jié)果表明:所制備的NiCr薄膜在中遠紅外區(qū)都具有較高的反射率,平均值約為0.92,附著力級別均能達到5B;氬氣壓強對薄膜的性能具有較大的影響,具體表現(xiàn)為:隨著壓強的增大,薄膜的結(jié)晶度先上升后下降,均勻性先變好后變壞,在壓強為4Pa時薄膜質(zhì)量最好。
[Abstract]:NiCr thin films were fabricated on stainless steel substrates by radio frequency magnetron sputtering . The effects of different argon pressures on the morphology and optical properties of the films were investigated . The results show that the prepared NiCr films have higher reflectivity in the middle and far infrared regions , the average value is about 0.92 , the adhesion level can reach 5B ; the pressure of argon increases first and then decreases after the increase of the pressure . The uniformity of the films becomes worse . The film quality is best when the pressure is 4 Pa .

【作者單位】： 暨南大學信息科學技術(shù)學院;
【基金】：廣東省教育部產(chǎn)學研結(jié)合項目(2012B091000111) 廣東省科技計劃項目(2014A010106014) 中央高�；究蒲袠I(yè)務費專項基金(21612412) 暨南大學挑戰(zhàn)杯項目(141213045)
【分類號】：TG174.4

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本文編號：1725135