電子束與電阻復(fù)合蒸發(fā)法制備Zr-Cu非晶薄膜及性能表征
本文選題:Zr-Cu非晶薄膜 切入點(diǎn):復(fù)合蒸發(fā) 出處:《材料導(dǎo)報(bào)》2015年12期 論文類型:期刊論文
【摘要】:主要采用電子束蒸發(fā)與電阻蒸發(fā)復(fù)合鍍膜系統(tǒng)制備Zr-Cu二元非晶薄膜,襯底基板無冷卻裝置。通過X射線衍射儀(XRD)、場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡(FE-TEM)、場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)、微控四探針測(cè)量?jī)x等儀器,系統(tǒng)地研究了樣品沉積時(shí)間對(duì)薄膜厚度、微觀結(jié)構(gòu)、表面形貌以及電學(xué)性能的影響,另外還分析了與磁控濺射制備的Zr-Cu非晶樣品的區(qū)別。結(jié)果顯示,該復(fù)合鍍膜技術(shù)制備的ZrxCu100-x非晶薄膜玻璃形成成分范圍為x=30~85;薄膜的結(jié)構(gòu)與性能對(duì)沉積時(shí)間比較敏感。樣品隨沉積時(shí)間的延長(zhǎng)從非晶結(jié)構(gòu)逐漸向非晶納米晶復(fù)合結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變;相比磁控濺射制備的薄膜樣品,復(fù)合蒸發(fā)法制備的薄膜表面呈現(xiàn)較大尺寸的"團(tuán)簇"形貌;樣品的電阻率和方塊電阻隨沉積時(shí)間的延長(zhǎng)逐漸減小。
[Abstract]:Zr-Cu binary amorphous films were prepared by the composite coating system of electron beam evaporation and resistance evaporation. There is no cooling device on substrate substrates. By means of X-ray diffractometer, field emission transmission electron microscope, field emission scanning electron microscope, FE-SEMU, microcontrolled four-probe measuring instrument, etc., the deposition time of the sample to the thickness and microstructure of the film has been systematically studied. The influence of surface morphology and electrical properties was also analyzed. The differences between amorphous Zr-Cu samples prepared by magnetron sputtering and the results showed that, The glass composition range of ZrxCu100-x amorphous films prepared by the composite coating technology is xan30855.The structure and properties of the films are sensitive to the deposition time, and the samples gradually change from amorphous structure to amorphous nanocrystalline composite structure with the increase of deposition time. Compared with the films prepared by magnetron sputtering, the surface of the films prepared by composite evaporation shows a larger "cluster" shape, and the resistivity and the square resistance of the films decrease with the increase of deposition time.
【作者單位】: 合肥工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】:國(guó)家自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目(51171055) 全國(guó)百篇優(yōu)秀博士論文作者資助項(xiàng)目(201149)
【分類號(hào)】:TG139.8;TB383.2
【參考文獻(xiàn)】
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【共引文獻(xiàn)】
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【二級(jí)參考文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):1579071
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