鋁釔鍍層及微弧氧化膜性能的研究
本文關(guān)鍵詞:鋁釔鍍層及微弧氧化膜性能的研究 出處:《燕山大學(xué)》2015年碩士論文 論文類(lèi)型:學(xué)位論文
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【摘要】:本文采用熔鹽電鍍技術(shù)制備了鋁釔合金鍍層,研究了鍍層中釔的含量對(duì)鋁釔合金鍍層性能的影響。通過(guò)微弧氧化技術(shù)將鋁釔鍍層轉(zhuǎn)化為微弧氧化膜,研究了鋁釔鍍層中釔的含量、電解液硅酸鈉濃度、微弧氧化氧化時(shí)間、表面活性劑十二烷基硫酸鈉濃度以及不同添加劑對(duì)微弧氧化膜性能的影響。利用掃描電子顯微鏡(SEM)、能譜分析儀(EDS)和X射線衍射儀(XRD)設(shè)備測(cè)試了鍍層和微弧氧化膜試樣的表面微觀形貌、元素含量和組織結(jié)構(gòu);利用電化學(xué)工作站測(cè)試了鋁釔鍍層和微弧氧化膜的Tafel極化曲線和交流阻抗譜;通過(guò)膜層測(cè)厚儀和顯微硬度計(jì)測(cè)定鍍層和微弧氧化膜的厚度和硬度。研究結(jié)果表明,在熔融鹽體系中氧化釔的添加量對(duì)合金鍍層的性能有明顯的影響;鍍層主要以鋁相、釔相組成以及鋁釔合金的形式存在。微弧氧化電解液硅酸鈉濃度為10g/L,微弧氧化時(shí)間為15 min,微弧氧化電壓為350 V;氧化膜主要由Al、Fe、Al2O3及Al3Y組成。當(dāng)鍍層中Y含量為0.56%時(shí),鍍層與微弧氧化膜的表面形貌致密均勻,形成的氧化膜耐蝕性最好,厚度、硬度也較大;在硅酸鈉和十二烷基硫酸鈉電解液中加入K2Zr F6、K2Cr O4,氧化膜的耐蝕性有所改善。加入K2C2O4對(duì)氧化膜的耐蝕性沒(méi)有顯著影響。
【學(xué)位授予單位】:燕山大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類(lèi)號(hào)】:TG174.4
【參考文獻(xiàn)】
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,本文編號(hào):1336992
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