天堂国产午夜亚洲专区-少妇人妻综合久久蜜臀-国产成人户外露出视频在线-国产91传媒一区二区三区

當(dāng)前位置:主頁 > 科技論文 > 金屬論文 >

鎂合金表面磁控濺射離子鍍碳膜工藝及性能研究

發(fā)布時間:2017-10-29 00:14

  本文關(guān)鍵詞:鎂合金表面磁控濺射離子鍍碳膜工藝及性能研究


  更多相關(guān)文章: 鎂合金 磁控濺射離子鍍 碳膜 耐蝕性 耐磨性


【摘要】:Mg-Gd-Y-Zr系列稀土鎂合金由于其優(yōu)良的高溫強度以及抗蠕變性能,得到了廣泛的研究與應(yīng)用。然而其較差的耐腐蝕和耐磨損性能極大地限制了發(fā)展,表面改性是改善稀土鎂合金耐蝕耐磨性能最有效的方式之一。本文采用閉合場非平衡磁控濺射離子鍍技術(shù),在GW83鎂合金表面制備碳膜來達到提高其耐蝕耐磨性能的目的。同時,對磁控濺射離子鍍沉積碳膜的工藝進行了系統(tǒng)研究,主要分析了清理偏壓、基體負(fù)偏壓、靶電流、不同過渡層對碳膜的表面形貌、硬度及彈性模量、膜基結(jié)合強度、耐蝕性、耐磨性等的影響,并獲得了最佳制備工藝。實驗結(jié)果表明,鍍膜前施加合適的清理偏壓可以有效清理基體表面,從而減少薄膜缺陷,提高薄膜致密度。在鍍膜過程中給基體施加負(fù)偏壓,能增強離子對薄膜的轟擊作用,使得薄膜致密度及與基體的結(jié)合強度提高,從而其耐蝕性得到提高;但過大的基體偏壓會造成對基體過高的能量轟擊,不利于薄膜致密度及耐蝕性的提高。合適的靶電流可以對薄膜形成適當(dāng)?shù)恼x子轟擊,且能保持合適的沉積速率,從而形成孔隙率低并與基體結(jié)合良好的膜層。本文中基體偏壓為-40 V靶電流為3.5 A下制備的C/Al薄膜綜合性能最佳,硬度及彈性模量分別為880.9 HV和68.8 GPa,在3.5 wt%NaCl溶液中的腐蝕電位為-1624mV,腐蝕電流密度為198μA cm-2。2 N,1800 s磨損環(huán)境下磨痕寬度為0.93 mm。相比于C/Al、C/Ti膜層,C/Cr膜層具有更高的硬度及耐磨性能,這是由于高硬度的Cr作為金屬過渡層時可以有效提高基體承載能力。C/Al膜層具有更高的膜基結(jié)合強度及耐腐蝕性能,這是由于Al的物理性能(如硬度、彈性模量)與Mg最接近,Al易于沉積在鎂合金上,同時Al與Mg電極電位接近,減小了電偶腐蝕的影響。將磁控濺射與化學(xué)鍍相結(jié)合,制備了致密均勻,表面孔隙率極低的Ni+C復(fù)合膜層,其表面碳層為典型的類石墨結(jié)構(gòu)。在復(fù)合膜層中,表面碳層與Ni層結(jié)合良好,在3.5 wt%NaCl溶液中的腐蝕電位由GW83鎂合金的-1673 mV正移到-1372 mV,腐蝕電流密度由90μA cm-2降至11μA cm-2,顯著提高了基體的耐腐蝕性能。此外Ni+C復(fù)合膜層在磨損測試時延長了基體鎂合金的磨損壽命。這是由于較厚的Ni中間層的加入,不僅提高了膜層致密度,降低了孔隙率;而且起到了過渡各層硬度的作用,降低了膜層內(nèi)應(yīng)力,提高了膜層的承載能力,從而提高了復(fù)合膜層的耐蝕耐磨性能。
【關(guān)鍵詞】:鎂合金 磁控濺射離子鍍 碳膜 耐蝕性 耐磨性
【學(xué)位授予單位】:上海交通大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號】:TG174.4
【目錄】:
  • 摘要3-5
  • ABSTRACT5-10
  • 第一章 緒論10-19
  • 1.1 稀土鎂合金10-12
  • 1.1.1 稀土對鎂合金的作用10-11
  • 1.1.2 稀土鎂合金的系列11-12
  • 1.1.3 稀土鎂合金的應(yīng)用12
  • 1.2 鎂合金表面改性12-13
  • 1.2.1 陽極氧化12
  • 1.2.2 金屬鍍層12-13
  • 1.2.3 熱擴滲13
  • 1.2.4 離子注入13
  • 1.2.5 物理氣相沉積13
  • 1.3 磁控濺射技術(shù)13-17
  • 1.3.1 磁控濺射原理14
  • 1.3.2 磁控濺射發(fā)展14-16
  • 1.3.3 閉合場非平衡磁控濺射離子鍍技術(shù)16-17
  • 1.4 磁控濺射在鎂合金中的應(yīng)用17-18
  • 1.5 本文研究的內(nèi)容及意義18-19
  • 第二章 實驗內(nèi)容及方法19-27
  • 2.1 基體材料及前處理19
  • 2.2 鍍層制備19-20
  • 2.3 鍍層性能測試方法20-27
  • 2.3.1 表面形貌觀察20-21
  • 2.3.2 拉曼光譜21
  • 2.3.3 硬度及彈性模量測試21
  • 2.3.4 劃痕測試21-23
  • 2.3.5 電化學(xué)測試23-25
  • 2.3.6 摩擦磨損測試25-27
  • 第三章 鍍膜工藝對碳膜性能的影響27-51
  • 3.1 清理偏壓對碳膜性能的影響27-30
  • 3.1.1 表面形貌27-28
  • 3.1.2 橫截面形貌28-29
  • 3.1.3 膜基結(jié)合力29
  • 3.1.4 硬度及彈性模量29-30
  • 3.2 鍍膜偏壓對碳膜性能的影響30-40
  • 3.2.1 表面形貌31-32
  • 3.2.2 膜基結(jié)合力32-33
  • 3.2.3 硬度及彈性模量33
  • 3.2.4 耐腐蝕性能33-37
  • 3.2.5 耐磨損性能37-40
  • 3.3 靶電流對碳膜性能的影響40-49
  • 3.3.1 表面形貌40-41
  • 3.3.2 膜基結(jié)合力41-42
  • 3.3.3 硬度及彈性模量42-43
  • 3.3.4 耐腐蝕性能43-46
  • 3.3.5 耐磨損性能46-49
  • 3.4 本章小結(jié)49-51
  • 第四章 Al、Cr、Ti不同金屬過渡層對碳膜性能的影響51-67
  • 4.1 清理偏壓對C/Cr、C/Ti薄膜性能的影響51-57
  • 4.1.1 表面形貌51-53
  • 4.1.2 膜基結(jié)合力53-55
  • 4.1.3 硬度及彈性模量55-57
  • 4.2 不同過渡層對碳膜性能的影響57-65
  • 4.2.1 表面形貌57-58
  • 4.2.2 硬度及彈性模量58-59
  • 4.2.3 膜基結(jié)合力59-60
  • 4.2.4 耐腐蝕性能60-62
  • 4.2.5 耐磨損性能62-65
  • 4.3 本章小結(jié)65-67
  • 第五章 Ni+C復(fù)合膜層在工程上的應(yīng)用67-80
  • 5.1 Ni+C復(fù)合膜層的制備67-68
  • 5.1.1 化學(xué)鍍Ni67-68
  • 5.1.2 磁控濺射68
  • 5.2 形貌及性能分析68-78
  • 5.2.1 表面形貌68-69
  • 5.2.2 橫截面及線掃描69-70
  • 5.2.3 硬度及彈性模量70-71
  • 5.2.4 膜基結(jié)合力71-72
  • 5.2.5 耐腐蝕性能72-75
  • 5.2.6 耐磨損性能75-78
  • 5.3 本章小結(jié)78-80
  • 第六章 結(jié)論80-82
  • 參考文獻82-87
  • 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文87-88
  • 致謝88-90

【相似文獻】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 岳錫華,張力立;鈦合金表面淀積耐磨耐蝕堅硬碳膜的研究[J];稀有金屬;1987年06期

2 劉忻;;黃銅管材內(nèi)壁碳膜中碳量的測定[J];上海金屬.有色分冊;1992年05期

3 魏微;胡浩權(quán);秦國彤;尤隆渤;;分子篩碳膜的制備[J];過程工程學(xué)報;2007年03期

4 馬名杰;張愛蕓;;碳膜制備及應(yīng)用研究進展[J];河南理工大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版);2008年06期

5 董仁杰;徐偉;蓋秀貞;丁明孝;;一種用于暗場電鏡術(shù)的超薄碳膜制備方法[J];電子顯微學(xué)報;1984年04期

6 王康;;堅硬碳膜的真空沉積[J];國外金屬熱處理;1984年04期

7 肖覺民,陳本敬,楊巧勤,黃正中;高頻等離子體中生長碳膜初探[J];碳素;1986年01期

8 錢苗根;;非晶態(tài)碳膜及其應(yīng)用[J];材料科學(xué)與工程;1991年01期

9 高金海;李楨;張武勤;張兵臨;;復(fù)合發(fā)光碳膜[J];光電子技術(shù);2014年01期

10 D.G.Teer ,M.Salama ,邵本逑;離子鍍碳膜[J];固體潤滑;1985年01期

中國重要會議論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 陳建敏;;超潤滑碳膜的研究與應(yīng)用[A];先進潤滑抗磨材料研討會論文集(PPT版)[C];2007年

2 董仁杰;徐偉;蓋秀貞;丁明孝;;一種用于暗場電鏡術(shù)的超薄碳膜制備方法[A];第三次中國電子顯微學(xué)會議論文摘要集(二)[C];1983年

3 朱小琴;杭凌俠;;不同的真空熱處理方式對碳膜性能的影響[A];TFC'07全國薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會論文摘要集[C];2007年

4 陳祝平;楊光;;液相等離子沉積非晶態(tài)碳膜的試驗研究[A];第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議論文集(10)[C];2007年

5 王永欣;王立平;張廣安;薛群基;;無氫類石墨碳膜制備及其摩擦學(xué)性能研究[A];2009年全國青年摩擦學(xué)學(xué)術(shù)會議論文集[C];2009年

6 杜軍;;碳膜的摩擦學(xué)性能評價及與CrCuN鍍層耐磨性能比較[A];2009年全國青年摩擦學(xué)學(xué)術(shù)會議論文集[C];2009年

7 N.Cue;郝士琢;蔣增學(xué);楊百方;師勉恭;繆競威;;1.6Mev D_2~+通過碳膜的透射[A];第五次核物理會議資料匯編(上冊)[C];1982年

8 杜軍;蔡志海;趙軍軍;;碳膜的摩擦學(xué)性能評價及與CrCuN鍍層耐磨性能比較[A];2009年全國青年摩擦學(xué)學(xué)術(shù)會議論文集[C];2009年

9 王玉江;馬欣新;唐光澤;徐濱士;;等離子體基離子注入電壓對碳膜化學(xué)結(jié)構(gòu)及摩擦學(xué)性能的影響[A];2011年全國青年摩擦學(xué)與表面工程學(xué)術(shù)會議論文集[C];2011年

10 杜軍;于芳麗;趙軍軍;蔡志海;;磁控濺射含Ti/Cr碳膜的成分和微觀結(jié)構(gòu)分析[A];TFC'07全國薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會論文摘要集[C];2007年

中國重要報紙全文數(shù)據(jù)庫 前1條

1 廣西 陳功任;遙控器碳膜斷線連接法[N];電子報;2004年

中國博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前4條

1 宋秋實;熔鹽電沉積碳膜的研究[D];東北大學(xué);2012年

2 顏永紅;摻胺氫化碳膜的特性與應(yīng)用研究[D];湖南大學(xué);2001年

3 劉韌;前驅(qū)體聚酰亞胺薄膜梯度升溫制備碳膜過程中的結(jié)構(gòu)演變與性能研究[D];山東大學(xué);2014年

4 吳志強;氣體在納米孔碳膜內(nèi)吸附、擴散及分離的分子模擬研究[D];北京化工大學(xué);2008年

中國碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 楊麗雯;摻鉻類石墨碳膜在潤滑油條件下的摩擦學(xué)性能研究[D];陜西理工學(xué)院;2015年

2 毛艷;鎂合金表面磁控濺射離子鍍碳膜工藝及性能研究[D];上海交通大學(xué);2015年

3 褚俊翔;氣體分離碳膜的制備及性能研究[D];天津大學(xué);2007年

4 邢朝陽;熔鹽電化學(xué)方法在鉭表面沉積碳膜的研究[D];東北大學(xué);2012年

5 尚旭敬;熔鹽中不銹鋼表面電化學(xué)沉積碳膜[D];東北大學(xué);2011年

6 李揚;陰極模式/陽極模式制備無定型碳膜[D];大連理工大學(xué);2013年

7 孫剛;微感應(yīng)耦合等離子體源生長碳膜及其結(jié)構(gòu)研究[D];蘇州大學(xué);2008年

8 欒亞;磁控濺射參數(shù)對含鉻類石墨碳膜沉積速率、組織與性能影響的研究[D];西安理工大學(xué);2006年

9 何豐;納米孔碳膜的制備及性能研究[D];天津大學(xué);2005年

10 周立靜;定向冷凍法制備SPEEK-PVA定向微孔碳膜及應(yīng)用[D];大連理工大學(xué);2013年

,

本文編號:1110562

資料下載
論文發(fā)表

本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/jinshugongy/1110562.html


Copyright(c)文論論文網(wǎng)All Rights Reserved | 網(wǎng)站地圖 |

版權(quán)申明:資料由用戶fee89***提供,本站僅收錄摘要或目錄,作者需要刪除請E-mail郵箱bigeng88@qq.com