本文關(guān)鍵詞：不同TiC含量對(duì)激光熔覆Ni基涂層組織和性能的影響

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【摘要】：近年來(lái),隨著激光技術(shù)的不斷發(fā)展,激光熔覆技術(shù)的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。激光熔覆技術(shù)可以在廉價(jià)的基體表面制備優(yōu)良的強(qiáng)化涂層,可以節(jié)約貴重金屬,由于該熔覆層能顯著提高材料表面的硬度和耐磨性,國(guó)內(nèi)外許多研究人員采用多種方法在不同基體上制備了各種強(qiáng)化涂層,并且在這方面取得了豐富的研究成果。本文將對(duì)低含量TiC對(duì)熔覆層組織和性能的影響進(jìn)行研究。本研究采用CO2激光加工設(shè)備在EH36鋼表面制備了TiC/Ni基熔覆層,采用金相顯微鏡,掃面電鏡及能譜儀和數(shù)顯顯微硬度計(jì)對(duì)熔覆層的表面形貌、組織、成分和硬度進(jìn)行分析和測(cè)量,探討了不同TiC含量和晶粒對(duì)Ni基熔覆層組織和性能的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,當(dāng)不添加TiC增強(qiáng)相時(shí),熔覆層組織致密,無(wú)明顯缺陷。加入TiC后,熔覆層的的晶粒更加細(xì)小。激光能量的增加使TiC發(fā)生分解,促進(jìn)了形核,并使晶粒細(xì)化。當(dāng)TiC含量為2%和8%時(shí),熔覆層無(wú)明顯孔洞,但當(dāng)TiC含量達(dá)到5%含量時(shí),熔覆層出現(xiàn)較大的孔洞。TiC的尺寸在200nm~24μm之間,大尺寸TiC增強(qiáng)相為周邊較為圓滑的橢圓形,而小尺寸Ti C增強(qiáng)相為多邊形,且主要分布在晶界處。隨著TiC含量的增加,熔覆層的硬度增加,2%Ti C含量為415HV,5%TiC含量為442HV,8%TiC含量為721HV,高于基體EH36鋼的300HV。
【關(guān)鍵詞】：激光熔覆 TiC 陶瓷增強(qiáng)相 組織形貌
【學(xué)位授予單位】：遼寧科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號(hào)】：TG174.4
【目錄】：

• 中文摘要5-6
• ABSTRACT6-9
• 1. 緒論9-18
• 1.1 激光熔覆技術(shù)9-11
• 1.1.1 激光熔覆技術(shù)優(yōu)勢(shì)9-10
• 1.1.2 激光熔覆工藝參數(shù)10
• 1.1.3 激光熔覆技術(shù)研究重點(diǎn)10
• 1.1.4 激光熔覆技術(shù)的應(yīng)用10-11
• 1.2 激光熔覆材料11-13
• 1.2.1 熔覆材料的選擇依據(jù)11-12
• 1.2.2 熔覆層合金粉末12
• 1.2.3 熔覆層陶瓷增強(qiáng)相顆粒12
• 1.2.4 碳化物陶瓷增強(qiáng)相12-13
• 1.2.5 增強(qiáng)相與基體的結(jié)合方法13
• 1.2.6 TiC相關(guān)性質(zhì)13
• 1.3 激光熔覆TiC增強(qiáng)金屬基復(fù)合涂層的研究現(xiàn)狀13-16
• 1.3.1 耐磨性研究13-16
• 1.3.2 耐腐蝕性研究16
• 1.3.3 抗氧化性研究16
• 1.4 本課題研究目的意義與主要內(nèi)容16-18
• 2. 實(shí)驗(yàn)方案18-25
• 2.1 實(shí)驗(yàn)材料18-19
• 2.1.1 基體材料18
• 2.1.2 Ni基自熔性合金粉末18-19
• 2.1.3 陶瓷相增強(qiáng)顆粒19
• 2.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備19-22
• 2.2.1 激光熔覆設(shè)備19-20
• 2.2.2 加工與檢測(cè)儀器20-22
• 2.3 實(shí)驗(yàn)過(guò)程22-25
• 2.3.1 粉末制備22
• 2.3.2 激光熔覆實(shí)驗(yàn)22
• 2.3.3 硬度檢測(cè)22-24
• 2.3.4 顯微組織觀察24-25
• 3.實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析25-46
• 3.1 激光熔覆層宏觀形貌25-26
• 3.2 TiC/Ni基合金熔覆層顯微組織26-42
• 3.2.1 0%TiC/Ni基合金熔覆層顯微組織26
• 3.2.2 2%TiC/Ni基合金熔覆層顯微組織26-31
• 3.2.3 5%TiC/Ni基合金熔覆層顯微組織31-36
• 3.2.4 8%TiC/Ni基合金熔覆層顯微組織36-42
• 3.3 TiC/Ni基合金熔覆層顯微硬度測(cè)量42-46
• 4. 結(jié)論46-47
• 參考文獻(xiàn)47-51
• 致謝51-52
• 作者簡(jiǎn)介52-53

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